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1. (WO2011012093) METHOD FOR REACTIVE SPUTTERING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2011/012093    International Application No.:    PCT/CZ2010/000082
Publication Date: 03.02.2011 International Filing Date: 27.07.2010
IPC:
C23C 14/00 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01)
Applicants: SHM, s.r.o. [CZ/CZ]; Průmyslová 3020/3 787 01 Šumperk (CZ) (For All Designated States Except US).
JÍLEK, Mojmír [CZ/CZ]; (CZ) (For US Only).
HOLUBÁŘ, Pavel [CZ/CZ]; (CZ) (For US Only).
ŠÍMA, Michal [CZ/CZ]; (CZ) (For US Only)
Inventors: JÍLEK, Mojmír; (CZ).
HOLUBÁŘ, Pavel; (CZ).
ŠÍMA, Michal; (CZ)
Agent: WALTER, Jiří; Počernická 54 108 00 Praha 10 (CZ)
Priority Data:
2009-504 28.07.2009 CZ
Title (EN) METHOD FOR REACTIVE SPUTTERING
(FR) PROCÉDÉ DE PULVÉRISATION CATHODIQUE RÉACTIVE
Abstract: front page image
(EN)The invention is related to the method of creating protective and functional layers using the PVD method, from a cathode with reduced surface electrical conductivity, by way of application from the working coating source where the principle is that the material is applied to the substrate (6) from the working coating source designed as a rotating working cathode (2) wherein the rotating working cathode (2) is coated during the process from the auxiliary coating source with material with sufficient electrical conductivity where the layer of the coating applied to the surface of the rotating working cathode (2) has greater electrical conductivity than the surface of this rotating working cathode (2) created during the processes without coating of the rotating working cathode using the auxiliary coating source.
(FR)L'invention concerne un procédé de création de couches protectrices et fonctionnelles qui utilise le procédé de déposition en phase vapeur par procédé physique, par une cathode dont la conductivité électrique superficielle est réduite, à l'aide d'une application par la source de revêtement de travail, le principe étant que le matériau est appliqué au substrat (6) par la source de revêtement de travail constituant une cathode de travail tournante (2), la cathode de travail tournante (2) étant revêtue durant le processus par la source de revêtement auxiliaire avec un matériau avec une conductivité électrique suffisante, la couche du revêtement appliquée sur la surface de la cathode de travail tournante (2) ayant une conductivité électrique supérieure à celle de la surface de cette cathode de travail tournante (2) créée durant le processus sans revêtement de la cathode de travail tournante à l'aide de la source de revêtement auxiliaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)