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1. (WO2010151398) SYSTEMS AND METHODS FOR VARYING THE REPEAT PITCH DISTANCE OF A SUBSTRATE FOR USE WITH ABSORBENT ARTICLES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/151398    International Application No.:    PCT/US2010/036824
Publication Date: 29.12.2010 International Filing Date: 01.06.2010
IPC:
A61F 13/15 (2006.01), B65H 23/188 (2006.01), B29C 55/18 (2006.01), B41F 17/00 (2006.01)
Applicants: THE PROCTER & GAMBLE COMPANY [US/US]; One Procter & Gamble Plaza Cincinnati, Ohio 45202 (US) (For All Designated States Except US).
SCHNEIDER, Uwe [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SCHNEIDER, Uwe; (US)
Common
Representative:
THE PROCTER & GAMBLE COMPANY; C/o Eileen L. Hughett Global Patent Services 299 East Sixth Street Sycamore Building, 4th Floor Cincinnati, Ohio 45202 (US)
Priority Data:
12/492,388 26.06.2009 US
Title (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR VARYING THE REPEAT PITCH DISTANCE OF A SUBSTRATE FOR USE WITH ABSORBENT ARTICLES
(FR) SYSTÈMES ET MÉTHODES DE VARIATION DE LA DISTANCE DE PAS DE RÉPÉTITION D'UN SUBSTRAT À UTILISER AVEC DES ARTICLES ABSORBANTS
Abstract: front page image
(EN)Apparatuses and methods for producing an absorbent article are provided. Graphics are printed on a substrate, where consecutive graphics are separated in the machine direction by a first repeat pitch length. The substrate is activated, or incrementally stretched, in a first direction to define a second repeat pitch distance. The second repeat pitch distance is substantially equal to the pitch length of the absorbent article pitch length. The substrate is activated, or incrementally stretched, in the machine direction subsequent to printing to increase the repeat pitch distance. The substrate may be activated in the cross direction to increase the width of the substrate. Only portions of the substrate may undergo activation. The activation may be performed with rollers and/or stamping.
(FR)La présente invention concerne des appareils et des méthodes de production d'un article absorbant. Des graphiques sont imprimés sur un substrat, les graphiques consécutifs étant séparés dans le sens machine par une première longueur de pas de répétition. Ledit substrat est activé, ou étiré de manière incrémentielle, dans une première direction afin de définir une seconde distance de pas de répétition. Ladite seconde distance de pas de répétition est sensiblement égale à la longueur de pas de l'article absorbant. Le substrat est activé, ou étiré incrémentiellement, dans le sens machine après l'impression afin de permettre l'augmentation de la distance de pas de répétition. Le substrat peut être activé dans le sens travers pour permettre l'augmentation de sa largeur. Seules des parties du substrat peuvent subir l'activation. Ladite activation peut être réalisée avec des rouleaux et/ou par estampage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)