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1. (WO2010151287) ALIGNING ELEMENTS IN BACK-ILLUMINATED IMAGE SENSORS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/151287    International Application No.:    PCT/US2010/001678
Publication Date: 29.12.2010 International Filing Date: 11.06.2010
IPC:
H01L 27/146 (2006.01)
Applicants: OMNIVISION TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 4275 Burton Drive Santa Clara, CA 95054 (US) (For All Designated States Except US).
MCCARTEN, John P. [US/US]; (US) (For US Only).
TIVARUS, Cristian Alexandru [RO/US]; (US) (For US Only).
SUMMA, Joseph R. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MCCARTEN, John P.; (US).
TIVARUS, Cristian Alexandru; (US).
SUMMA, Joseph R.; (US)
Priority Data:
12/459,044 26.06.2009 US
Title (EN) ALIGNING ELEMENTS IN BACK-ILLUMINATED IMAGE SENSORS
(FR) ELÉMENTS D'ALIGNEMENT DANS DES CAPTEURS D'IMAGE RÉTRO-ÉCLAIRÉS
Abstract: front page image
(EN)A back-illuminated image sensor includes a sensor layer disposed between a circuit layer adjacent to a frontside of the sensor layer and a layer disposed on a backside of the sensor layer. One or more first alignment marks are formed in a layer in the circuit layer. A masking layer is aligned to the one or more first alignment marks. The masking layer includes openings that define locations for one or more second alignment marks. The one or more second alignment marks are then formed in or through the layer disposed on a backside of a sensor layer. One or more elements are formed in or on the backside of the sensor layer. The one or more elements are aligned to one or more second alignment marks.
(FR)L'invention concerne un capteur d'image rétro-éclairé qui comprend une couche de détection placée entre une couche de circuit adjacente à la face avant de la couche de détection, et une couche placée sur la face arrière de la couche de détection. Un ou plusieurs premier(s) repère(s) d'alignement est/sont formé(s) dans une couche de la couche de circuit. Une couche de masquage est alignée par rapport à un ou à plusieurs premier(s) repère(s) d'alignement. La couche de masquage comprend des ouvertures qui définissent des emplacements destinés à un ou à plusieurs deuxième(s) repère(s) d'alignement. Le(s) deuxième(s) repère(s) d'alignement est/sont ensuite formé(s) dans ou à travers la couche placée sur la face arrière d'une couche de détection. Un ou plusieurs éléments est/sont formé(s) dans ou sur la face arrière de la couche de détection, le(s)dit(s) élément(s) étant aligné(s) par rapport au(x) deuxième(s) repère(s) d'alignement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)