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1. (WO2010150590) VACUUM HEATING/COOLING APPARATUS AND METHOD OF PRODUCING MAGNETORESISTIVE ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2010/150590 International Application No.: PCT/JP2010/056855
Publication Date: 29.12.2010 International Filing Date: 16.04.2010
IPC:
H01L 21/26 (2006.01) ,H01L 43/12 (2006.01)
Applicants: TSUNEKAWA Koji[JP/JP]; JP (UsOnly)
NAGAMINE Yoshinori[JP/JP]; JP (UsOnly)
FURUKAWA Shinji[JP/US]; US (UsOnly)
CANON ANELVA CORPORATION[JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550, JP (AllExceptUS)
Inventors: TSUNEKAWA Koji; JP
NAGAMINE Yoshinori; JP
FURUKAWA Shinji; US
Agent: OKABE Yuzuru; No.602, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
Priority Data:
2009-15005524.06.2009JP
Title (EN) VACUUM HEATING/COOLING APPARATUS AND METHOD OF PRODUCING MAGNETORESISTIVE ELEMENT
(FR) APPAREIL DE CHAUFFAGE/REFROIDISSEMENT SOUS VIDE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT MAGNÉTORÉSISTIF
(JA) 真空加熱冷却装置および磁気抵抗素子の製造方法
Abstract: front page image
(EN) Disclosed is a vacuum heating/cooling apparatus capable of rapidly heating and rapidly cooling just a substrate while maintaining a high vacuum degree after film formation. The vacuum heating/cooling apparatus is provided with a vacuum chamber (1), a halogen lamp (2) which emits heating light, a quartz window (3) for making the heating light incident on the vacuum chamber (1), a substrate support table (9) which has a cooling function, and lift pins (13) which keep the substrate (5) stationary at a heating position (P3) and a cooling position (P1) and move the substrate (5) between the heating position (P3) and cooling position (P1).
(FR) La présente invention a trait à un appareil de chauffage/refroidissement sous vide capable de chauffer rapidement et de refroidir rapidement juste un substrat tout en maintenant un degré de vide élevé après la formation de film. L'appareil de chauffage/refroidissement sous vide est équipé d'une chambre à vide (1), d'une lampe à halogène (2) qui émet une lumière de chauffage, d'une fenêtre en quartz (3) permettant de faire en sorte que la lumière de chauffage soit incidente sur la chambre à vide (1), d'une table de support de substrat (9) qui est pourvue d'une fonction de refroidissement, et de broches de levée (13) qui maintiennent le substrat (5) fixe dans une position de chauffage (P3) et une position de refroidissement (P1) et déplacent le substrat (5) entre la position de chauffage (P3) et la position de refroidissement (P1).
(JA) 本発明は、成膜処理後に高い真空度を維持したまま基板のみを急速に加熱し、かつ急速に冷却することが可能な真空加熱冷却装置を提供する。本発明の一実施形態に係る真空加熱冷却装置は、真空チャンバー(1)と、加熱光を放射するハロゲンランプ(2)と、真空チャンバー(1)に上記加熱光を入射させるための石英窓(3)と、冷却機能を有する基板支持台(9)と、基板(5)を加熱位置P3および冷却位置P1にて静止させ、かつ基板(5)を加熱位P3と冷却位置P1との間で移動させるリフトピン(13)とを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)