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1. (WO2010149740) DEVICE AND METHOD FOR PARTICLE BEAM PRODUCTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/149740    International Application No.:    PCT/EP2010/059001
Publication Date: 29.12.2010 International Filing Date: 24.06.2010
Chapter 2 Demand Filed:    26.04.2011    
IPC:
H05H 7/00 (2006.01), H05H 7/12 (2006.01), A61N 5/10 (2006.01)
Applicants: ION BEAM APPLICATIONS S.A. [BE/BE]; Chemin du Cyclotron 3 B-1348 Louvain-la-neuve (BE) (For All Designated States Except US).
JONGEN, Yves [BE/BE]; (BE) (For US Only)
Inventors: JONGEN, Yves; (BE)
Agent: PRONOVEM - Office Van Malderen; Ave Josse Goffin 158 B-1082 Brussels (BE)
Priority Data:
09163686.0 24.06.2009 EP
Title (EN) DEVICE AND METHOD FOR PARTICLE BEAM PRODUCTION
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION DE FAISCEAU DE PARTICULES
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a pulsed beam particle accelerator which can be used for particle radiation therapy. More particular, a device and method are provided to control the number of particles within a beam pulse. The particle accelerator comprises means for varying the number of particles within each beam pulse of said pulsed ion beam from a minimum value to a maximum value as function of the value of a beam control parameter. For each particle irradiation the required number of particles for each beam pulse is controlled by defining a value for said beam control parameter based on calibration data.
(FR)La présente invention concerne un accélérateur de particules à faisceau pulsé pouvant être utilisé pour la thérapie par rayonnement de particules. Plus particulièrement, l'invention concerne un dispositif et un procédé pour contrôler le nombre de particules à l'intérieur d'une impulsion de faisceau. L'accélérateur de particules comporte un moyen pour faire varier le nombre de particules dans chaque impulsion de faisceau dudit faisceau d'ions pulsés depuis une valeur minimale jusqu'à une valeur maximale en fonction de la valeur d'un paramètre de commande de faisceau. Pour chaque irradiation de particules, le nombre nécessaire de particules pour chaque impulsion de faisceau est contrôlé en définissant une valeur pour ledit paramètre de commande de faisceau en fonction de données de étalonnage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)