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1. (WO2010147780) STIMULATION TECHNIQUE FOR OPEN HOLE WELL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/147780    International Application No.:    PCT/US2010/037577
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 07.06.2010
IPC:
E21B 43/14 (2006.01)
Applicants: SCHLUMBERGER CANADA LIMITED [CA/CA]; 525-3rd Avenue Southwest Calgary, Alberta T2P 0G4 (CA) (CA only).
SERVICES PETROLIERS SCHLUMBERGER [FR/FR]; 42 rue Saint Dominique F-75007 Paris (FR) (FR only).
SCHLUMBERGER HOLDINGS LIMITED [GB/GB]; P.O. Box 71, Craigmuir Chambers, Road Town Tortola, 1110 (VG) (GB, JP, NL only).
SCHLUMBERGER TECHNOLOOGY B.V. [NL/NL]; Parkstraat 83-89 NL-2514 JG The Hague (NL) (AL, AM, AU, AZ, BF, BG, BJ, BY, CF, CG, CI, CM, CO, CZ, DE, DK, GA, GN, GQ, GR, GW, HU, ID, IE, IL, IT, KG, KP, KR, KZ, LT, MD, ML, MR, MX, MY, NE, NO, NZ, OM, PL, RO, RU, SI, SK, SN, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, UZ, ZA only).
PRAD RESEARCH AND DEVELOPMENT LIMITED [GB/GB]; P.O. Box 71, Craigmuir Chambers, Road Town Tortola, 1110 (VG) (AE, AG, AO, AT, BA, BB, BE, BH, BR, BW, BZ, CH, CL, CN, CR, CU, CY, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, IN, IS, KE, KM, KN, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LV, LY, MA, MC, ME, MG, MK, MN, MT, MW, MZ, NA, NG, NI, PE, PG, PH, PT, RS, SC, SD, SE, SG, SL, SM, ST, SV, SY, TZ, UA, UG, VC, VN, ZM, ZW only).
SIMANCAS, Ricardo, Gomez [CO/ID]; (ID) (For US Only).
STAMM, Bryan [US/US]; (US) (For US Only).
WATSON, Graham [GB/US]; (US) (For US Only).
SAUNDERS, Tom [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SIMANCAS, Ricardo, Gomez; (ID).
STAMM, Bryan; (US).
WATSON, Graham; (US).
SAUNDERS, Tom; (US)
Agent: MATTHEWS, David, G.; 14910 Airline Road Rosharon, Texas 77583 (US)
Priority Data:
61/187,439 16.06.2009 US
12/705,885 15.02.2010 US
12/794,748 06.06.2010 US
Title (EN) STIMULATION TECHNIQUE FOR OPEN HOLE WELL
(FR) TECHNIQUE DE STIMULATION POUR PUITS À TROU OUVERT
Abstract: front page image
(EN)A stimulation technique is provided for use in an open hole well. The stimulation technique utilizes a system which comprises one or more isolation devices positioned to isolate desired regions of the open hole well. At least one release mechanism is used to provide controlled release of stimulation material to a desired wellbore region of the open hole well. Additionally, a protection mechanism cooperates with each release mechanism to prevent undesirable contact between stimulation material and the surrounding wellbore wall of the open hole well. In many applications, the entire system is deployed and operated during a single trip downhole into the well.
(FR)L'invention porte sur une technique de stimulation destinée à être utilisée dans un puits à trou ouvert. La technique de stimulation utilise un système qui comprend un ou plusieurs dispositifs d'isolation positionnés de façon à isoler des régions désirées du puits à trou ouvert. Au moins un mécanisme de libération est utilisé pour effectuer une libération commandée de matériau de stimulation vers une région de puits de forage désirée du puits à trou ouvert. De plus, un mécanisme de protection coopère avec chaque mécanisme de libération pour empêcher un contact indésirable entre le matériau de stimulation et la paroi de puits de forage environnante du puits à trou ouvert. Dans de nombreuses applications, la totalité du système est déployée et fonctionne durant un déplacement de fond de trou unique dans le puits.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)