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1. (WO2010147245) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/147245    International Application No.:    PCT/JP2010/060925
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 21.06.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
ICHINOSE, Go [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ICHINOSE, Go; (JP)
Agent: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Priority Data:
61/218,491 19.06.2009 US
12/818,276 18.06.2010 US
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)At a measurement bar (71) on which a first measurement head group (72) that measures positional information of a fine movement stage (WFS1) that holds a wafer (W) is arranged, various types of measurement instruments, e.g. an aerial image measuring instrument (160) and the like, used in measurement related exposure such as the optical properties of a projection optical system (PL) are arranged. The measurement is performed using the various types of measurement instruments and the exposure conditions such as the optical properties of the projection optical system (PL) are adjusted based on the result of the measurement, as needed, and thereby the exposure processing can appropriately be performed on the wafer (w).
(FR)Selon l'invention, divers types d'instruments de mesure, par exemple un instrument de mesure d'images aériennes (160) ou analogue, utilisés pour une exposition aux fins de mesure, notamment des propriétés optiques d'un système optique de projection (PL), sont installés au niveau d'une barre de mesure (71) sur laquelle est disposé un premier groupe de têtes de mesure (72) servant à mesurer des données de position d'un porte-plaquette à mouvement fin (WST1) portant une plaquette (W). La mesure est réalisée à l'aide de divers types d'instruments de mesure, et les critères d'exposition, tels que les propriétés optiques du système optique de projection (PL), sont au besoin ajustés en fonction des résultats de la mesure, ce qui permet d'accomplir correctement le processus d'exposition sur la plaquette.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)