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1. (WO2010147244) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/147244    International Application No.:    PCT/JP2010/060924
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 21.06.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
ICHINOSE, Go [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ICHINOSE, Go; (JP)
Agent: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Priority Data:
61/218,450 19.06.2009 US
12/818,644 18.06.2010 US
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract: front page image
(EN)Positional information of each of wafer stages (WST1 and WST2) during exposure and during alignment is measured directly under a projection optical system (PL) and directly under a primary alignment system (AL1), respectively, by a plurality of encoder heads, Z heads and the like, which a measurement bar (71) placed below surface plates (14A and 14B) has, using gratings placed on the lower surfaces of fine movement stages (WFS1 and WFS2). Consequently, high-precision measurement of the positional information of the wafer stages (WST1 and WST2) can be performed.
(FR)Selon l'invention, des informations de position de chacune de platines de tranche (WST1 et WST2) lors d'une exposition et lors d'un alignement sont mesurées directement sous un système optique de projection (PL) et directement sous un système d'alignement primaire (AL1), respectivement, par une pluralité de têtes de codage, des têtes Z et analogues, que possède une barre de mesure (71) disposée en dessous de plaques de surface (14A et 14B), à l'aide de réseaux disposés sur les surfaces inférieures des platines à mouvement fin (WST1 et WST2). Par conséquent, une mesure de précision élevée des informations de position des platines de tranche (WST1 et WST2) peut être réalisée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)