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1. (WO2010147185) OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/147185    International Application No.:    PCT/JP2010/060306
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 17.06.2010
IPC:
G02B 5/18 (2006.01), B42D 15/10 (2006.01), G02B 5/32 (2006.01)
Applicants: TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016 (JP) (For All Designated States Except US).
YASHIKI, Kazuhiro [JP/JP]; (For US Only).
SAWAMURA, Chikara [JP/JP]; (For US Only).
UMEZAKI, Koji [JP/JP]; (For US Only).
KUBO, Akira [JP/JP]; (For US Only)
Inventors: YASHIKI, Kazuhiro; .
SAWAMURA, Chikara; .
UMEZAKI, Koji; .
KUBO, Akira;
Agent: SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE, 1-12-9, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2009-145532 18.06.2009 JP
2010-092079 13.04.2010 JP
Title (EN) OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE ET PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION
(JA) 光学素子及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)A reflective layer can be formed stably with a high position accuracy. An optical element of the invention includes a relief structure formation layer, a first layer made of a first material having a refractive index different from that of the material of the relief structure formation layer, and a second layer made of a second material different from the first material, covering the first layer, and having a feature that the ratio of the quantity of the second material at the location of a second region to the apparent area of the second region is zero or small compared to the ratio of the quantity of the second material at the location of the second sub-region to the apparent area of the second sub-region.
(FR)L'invention porte sur une couche réfléchissante pouvant être constituée de manière stable avec une précision de position élevée. Un élément optique selon l'invention comprend une couche de formation de structure en relief, une première couche réalisée en un premier matériau ayant un indice de réfraction différent de celui du matériau de la couche de formation de structure en relief, et une seconde couche réalisée dans un second matériau différent du premier matériau, recouvrant la première couche, et ayant une caractéristique selon laquelle le rapport de la quantité du second matériau à l'emplacement d'une seconde région sur la zone apparente de la seconde région est nul ou de faible valeur par comparaison avec le rapport de la quantité du second matériau à l'emplacement de la seconde sous-région sur la surface apparente de la seconde sous-région.
(JA) 反射層を安定に且つ高い位置精度で形成することを可能とする光学技術を提供する。本発明に係る光学素子は、レリーフ構造形成層と、前記レリーフ構造形成層の材料とは屈折率が異なる第1材料からなる第1層と、前記第1材料とは異なる第2材料からなり、前記第1層を被覆し、前記第2領域の見かけ上の面積に対する前記第2領域の位置における前記第2材料の量の比は、ゼロであるか又は前記第2サブ領域の見かけ上の面積に対する前記第2サブ領域の位置における前記第2材料の量の比と比較してより小さい第2層とを含んでいる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)