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1. (WO2010147099) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/147099    International Application No.:    PCT/JP2010/060076
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 15.06.2010
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 20/22 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 1-9-2, Higashi-Shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
ASANO, Yuusuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWAKAMI, Takanori [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ASANO, Yuusuke; (JP).
KAWAKAMI, Takanori; (JP)
Agent: WATANABE, Kazuhira; 3rd Fl., No.8 Kikuboshi Tower Building, 20-18, Asakusabashi 3-chome, Taito-ku, Tokyo 1110053 (JP)
Priority Data:
2009-142400 15.06.2009 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING A RESIST PATTERN, COMPOUND, AND POLYMER
(FR) COMPOSITION DE RESINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCEDE POUR FORMER UN MOTIF DE RESERVE, COMPOSE, ET POLYMERE
(JA) 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体
Abstract: front page image
(EN)Provided is a radiation-sensitive resin composition that is a material for a resist coat having a large receding contact angle with an liquid immersion exposure solution, such as water, and is less susceptible to any defects caused by pattern development. The composition contains (A) a polymer that has a repeating unit containing an acid-dissociable group and that becomes alkali-soluble when the above-mentioned acid-dissociable group dissociates, and (B) a radiation-sensitive acid-generating agent. The acid-dissociable group has a structure represented by general formula (1). (In the general formula (1), R1 represents a methyl group, etc., R2 represents a hydrocarbon group that forms a ring structure, R3 represents a fluorine atom, etc., R4 represents a carbon atom, and n1 represents an integer from 1 to 7.)
(FR)La présente invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui est un matériau pour un revêtement de réserve présentant un grand angle de contact sortant avec une solution d'exposition en immersion liquide, telle que l'eau, et est moins susceptible aux défauts entraînés par le développement de motif. La composition contient : (A) un polymère ayant une unité de répétition contenant un groupe d'acide dissociable et qui devient alcalino-soluble lorsque ledit groupe d'acide dissociable se dissocie ; et (B) un agent de génération d'acide sensible au rayonnement. Le groupe d'acide dissociable présente une structure représentée par la formule générale (1), dans laquelle: R1 représente un groupe méthyle ; R2 représente une groupe hydrocarboné qui forme une structure d'anneau ; R3 représente un atome de fluor ; R4 représente un atome de carbone ; et n1 représente un nombre entier de 1 à 7.
(JA) 水などの液浸露光液に対する後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料であり、(A)酸解離性基を有する繰り返し単位を含み、上記酸解離性基が解離することによってアルカリ可溶性となる重合体と、(B)感放射線性酸発生剤と、を含有し、酸解離性基が、下記一般式(1)で表される構造を有する感放射線性樹脂組成物。 (一般式(1)中、Rはメチル基など、Rは環状構造を形成する炭化水素基、Rはフッ素原子など、Rは炭素原子、nは1~7の整数である。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)