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Pub. No.:    WO/2010/146923    International Application No.:    PCT/JP2010/056371
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 08.04.2010
G01N 5/02 (2006.01), G01N 29/02 (2006.01), H01L 41/08 (2006.01), H01L 41/18 (2006.01), H03H 9/145 (2006.01)
Applicants: Murata Manufacturing Co., Ltd. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP) (For All Designated States Except US).
YAMAMOTO Kansho [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IWAMOTO Hideki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YAMAMOTO Kansho; (JP).
IWAMOTO Hideki; (JP)
Agent: YAMAMOTO Toshinori; SHINGIJUTSU PATENT OFFICE, Room 810, Kondo-bldg., 4-12, Nishitenma 4-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Priority Data:
2009-145372 18.06.2009 JP
(JA) 弾性表面波センサー
Abstract: front page image
(EN)Provided is an elastic surface wave sensor wherein a metal membrane is used, thereby permitting the detection sensitivity to be improved. An elastic surface wave sensor (10) is equipped with (a) a piezoelectric substrate (12), (b) IDT electrodes (13) formed on the piezoelectric substrate (12), and (c) a coated membrane (17) formed in such a way as to cover the IDT electrodes (13). The coated membrane (17) comprises (i) an insulating membrane (14) which covers the IDT electrodes (13), (ii) a metal membrane (16) which is formed on the other side of the piezoelectric substrate (12) for the insulating membrane (14) and which has a density higher than that of the insulating membrane (14). As regards the elastic surface wave sensor (10), a mass load on the coated membrane (17) is detected by the IDT electrodes (13).
(FR)L'invention porte sur un capteur d'ondes de surface élastique dans lequel une membrane métallique est utilisée, de façon à permettre ainsi à la sensibilité de détection d'être améliorée. Un capteur d'ondes de surface élastique (10) est équipé (a) d'un substrat piézo-électrique (12), (b) d'électrodes IDT (13) formées sur le substrat piézo-électrique (12) et (c) d'une membrane revêtue (17) formée de façon à recouvrir les électrodes IDT (13). La membrane revêtue (17) comprend (i) une membrane d'isolation (14) qui recouvre les électrodes IDT (13) et (ii) une membrane métallique (16) qui est formée sur l'autre côté du substrat piézo-électrique (12) pour la membrane d'isolation (14) et qui a une densité supérieure à celle de la membrane d'isolation (14). En ce qui concerne le capteur d'ondes de surface élastique (10), une charge de masse sur la membrane revêtue (17) est détectée par les électrodes IDT (13).
(JA) 金属膜を利用して検出感度を向上させることができる弾性表面波センサーを提供する。 弾性表面波センサー10は、(a)圧電基板12と、(b)圧電基板12上に形成されたIDT電極13と、(c)IDT電極13を覆うように形成された被覆膜17とを備える。被覆膜17は、(i)IDT電極13を覆う絶縁膜14と、(ii)絶縁膜14の圧電基板12とは反対側に形成され、絶縁膜14の密度よりも密度が大きい金属膜16とを含む。弾性表面波センサー10は、被覆膜17上への質量負荷が、IDT電極13により検出される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)