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1. (WO2010146377) PRODUCTION OF NANOPARTICLES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/146377    International Application No.:    PCT/GB2010/001264
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 30.06.2010
IPC:
C23C 14/22 (2006.01)
Applicants: MANTIS DEPOSITION LIMITED [GB/GB]; 2 Goodson Industrial Mews Wellington Street Thame Oxfordshire OX9 3BX (GB) (For All Designated States Except US).
ALLERS, Lars [DE/GB]; (GB) (For US Only).
KEAN, Alistair [GB/GB]; (GB) (For US Only).
WYNNE-POWELL, Thomas Matthew [GB/GB]; (GB) (For US Only)
Inventors: ALLERS, Lars; (GB).
KEAN, Alistair; (GB).
WYNNE-POWELL, Thomas Matthew; (GB)
Agent: GILL JENNINGS & EVERY LLP; The Broadgate Tower 20 Primrose Street London EC2A 2ES (GB)
Priority Data:
0910401.9 17.06.2009 GB
Title (EN) PRODUCTION OF NANOPARTICLES
(FR) PRODUCTION DE NANOPARTICULES
Abstract: front page image
(EN)Composite nanoparticles can be produced by a processing apparatus comprising a source of charged, moving nanoparticles (10) or a first material and a first size, apparatus for imposing a like potential in a region (42) lying in the path of the nanoparticles, and a physical vapour deposition (PVD) source (40) of a second material directed toward the region, thereby to produce nanoparticles of a second and greater size being a composite of the first and second materials. The apparatus for imposing a like potential can comprise one or more conductive rings (28) surrounding the path of the nanoparticles, each at a successively lower potential. The physical vapour deposition source can be one or more of a sputter target, or an evaporative source, or another PVD source. There can be a plurality of physical vapour deposition sources, thereby allowing a larger region in which the shell is deposited. All of the physical vapour deposition sources can deposit the same material, for a uniform shell. Alternatively, different sources could allow for multiple shells or alloy shells.
(FR)La présente invention concerne des nanoparticules pouvant être produites par un appareil de traitement comportant une source de nanoparticules chargées en mouvement (10) d'un premier matériau et d'une première taille, un appareil pour imposer un potentiel identique dans une zone (42) se trouvant dans le chemin des nanoparticules, et une source de dépôt physique en phase vapeur (40) d'un second matériau dirigée vers la zone, en vue de la production de nanoparticules d'une seconde taille supérieure constituées sous forme d'un composite des premier et second matériaux. L'appareil pour imposer un potentiel identique peut comporter un ou des anneaux conducteurs (28) entourant le chemin des nanoparticules, chacun à un potentiel successivement inférieur. La source de dépôt physique en phase vapeur peut être une ou plusieurs parmi une cible de pulvérisation cathodique, ou une source d'évaporation, ou une autre source de dépôt physique en phase vapeur. Il peut être prévu une pluralité de sources de dépôt physique en phase vapeur, permettant ainsi une zone plus large où l'enveloppe est déposée. Toutes les sources de dépôt physique en phase vapeur peuvent déposer le même matériau, pour une enveloppe uniforme. En variante, différentes sources peuvent permettre d'obtenir une pluralité d'enveloppes ou d'enveloppes d'alliage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)