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1. (WO2010145969) METHOD FOR EQUIPPING AN EPITAXY REACTOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/145969    International Application No.:    PCT/EP2010/057976
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 08.06.2010
IPC:
C30B 25/08 (2006.01), C30B 35/00 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Applicants: AIXTRON SE [DE/DE]; Kaiserstraße 98 52134 Herzogenrath (DE) (For All Designated States Except US).
STRAUCH, Gerhard Karl [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: STRAUCH, Gerhard Karl; (DE)
Agent: GRUNDMANN, Dirk; Rieder & Partner Corneliusstraße 45 42329 Wuppertal (DE)
Priority Data:
10 2009 025971.6 15.06.2009 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUM EINRICHTEN EINES EPITAXIE-REAKTORS
(EN) METHOD FOR EQUIPPING AN EPITAXY REACTOR
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT L'AMÉNAGEMENT D'UN RÉACTEUR D'ÉPITAXIE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Einrichtung einer Prozesskammer in einer Vorrichtung zum Abscheiden von Schichten auf einem von einem Suszeptor in der Prozesskammer gehaltenen Substrats in dem durch ein Gaseinlassorgan, insbesondere mit Hilfe eines Trägergases Prozessgase in die Prozesskammer eingeleitet werden, die sich darin insbesondere an heißen Oberflächen in Zerlegungsprodukte zerlegen, welche Zerlegungsprodukte die Schicht bildende Komponenten aufweisen. Um die Vorrichtung derart zu ertüchtigen, dass dicke Mehrschichtstrukturen in unmittelbar aufeinanderfolgenden Prozessschritten reproduzieren abgeschieden werden können, wird vorgeschlagen, dass für die zur Prozesskammer weisenden Oberfläche zumindest der dem Suszeptor gegenüberliegenden Wandung der Prozesskammer ein Werkstoff gewählt wird, dessen optischer Reflektionsgrad, optischer Absorptionsgrad und optischer Transmissionsgrad jeweils dem der sich beim Schichtwachstum abscheidenden Beschichtung entspricht.
(EN)The invention relates to a method for providing a process chamber in a device for depositing layers on a substrate held by a susceptor in the process chamber in that process gases are introduced into the process chamber by a gas inlet element, in particular with the help of a carrier gas, said process gases decomposing into decomposition products therein, in particular on hot surfaces, said decomposition products comprising the components forming the layer. In order to boost the efficiency of the device in such a way that thick multilayer structures can be deposited so as to be replicated in directly consecutive process steps, it is proposed that a material, the optical reflectivity, optical absorptance, and optical transmittance of which each correspond to that of the coating deposited during the layer growth, be selected for the surface facing the process chamber at least of the wall of the process chamber opposite the susceptor.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant l'installation d'une chambre de traitement dans un dispositif de séparation de couches sur un substrat, maintenu par un suscepteur, dans la chambre de traitement, substrat dans lequel, par l'intermédiaire d'un organe d'admission de gaz, en particulier par l'intermédiaire d'un gaz porteur, des gaz de traitement sont introduits dans la chambre de traitement, lesquels se décomposent, en particulier sur des surfaces chaudes, en produits de décomposition, lesdits produits de décomposition présentant les composants formant la couche. Dans le but de rendre le dispositif opérationnel de façon que des structures multicouches épaisses puissent être séparées de manière reproductible en des étapes successives de procédé, l'invention est caractérisée en ce que, pour la surface dirigée vers la chambre de traitement, on sélectionne, au moins pour la paroi de la chambre de traitement opposée au suscepteur, un matériau dont le coefficient de réflexion optique, le coefficient d'absorption optique et le coefficient de transmission optique correspondent, respectivement, au revêtement déposé lors de la croissance de la couche.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)