WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010145959) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/145959    International Application No.:    PCT/EP2010/057916
Publication Date: 23.12.2010 International Filing Date: 07.06.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US).
VAN SCHOOT, Jan [NL/NL]; (NL) (For US Only).
DE VRIES, Gosse [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: VAN SCHOOT, Jan; (NL).
DE VRIES, Gosse; (NL)
Agent: SLENDERS, Peter; De Run 6504 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Priority Data:
61/187,829 17.06.2009 US
Title (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
Abstract: front page image
(EN)An illumination system having a plurality of reflective elements, the reflective elements being movable between different orientations which direct radiation towards different locations in a pupil plane, thereby forming different illumination modes, is described. Each reflective element is moveable to a first orientation in which it directs radiation to a location in an inner illumination location group, to a second orientation in which it directs radiation to a location in an intermediate illumination location group, and to a third orientation in which it directs radiation to a location in an outer illumination location group. The reflective elements are configured to be oriented such that they can direct equal amounts of radiation towards the inner, intermediate and outer illumination location groups, and are configured to be oriented such that they can direct substantially no radiation into the outer illumination location group and direct substantially equal amounts of radiation towards the inner and intermediate illumination location groups.
(FR)L'invention porte sur un système d'éclairage comprenant une pluralité d'éléments réfléchissants, les éléments réfléchissants étant mobiles entre différentes orientations orientant le rayonnement vers différents emplacements du plan pupillaire, de façon à constituer ainsi différents modes d'éclairage. Chaque élément réfléchissant est mobile jusqu'à une première orientation dans laquelle il dirige le rayonnement vers un emplacement d'un groupe d'emplacements d'éclairage, jusqu'à une deuxième orientation dans laquelle il dirige le rayonnement vers un emplacement d'un groupe intérieur d'emplacements d'éclairage intermédiaire, et jusqu'à une troisième orientation dans laquelle il oriente le rayonnement jusqu'à un emplacement d'un groupe extérieur d'emplacements d'éclairage. Les éléments réfléchissants sont configurés de façon à être orientés de telle sorte qu'ils peuvent diriger des quantités égales de rayonnement jusqu'aux groupes intérieur, intermédiaire, et extérieur d'emplacements d'éclairage, et sont configurés pour être orientés de telle sorte qu'ils peuvent n'orienter sensiblement aucun rayonnement dans le groupe extérieur d'emplacement d'éclairage et orienter sensiblement des valeurs égales de rayonnement jusqu'aux groupes intérieur et intermédiaire d'emplacements d'éclairage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)