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1. (WO2010143696) HAIR-TREATMENT COMPOSITION AND HAIR-TREATMENT METHOD USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/143696    International Application No.:    PCT/JP2010/059874
Publication Date: 16.12.2010 International Filing Date: 10.06.2010
IPC:
A61K 8/44 (2006.01), A61K 8/60 (2006.01), A61Q 5/02 (2006.01)
Applicants: HOYU CO., LTD. [JP/JP]; 501, Tokugawa 1-chome, Higashi-ku, Nagoya-shi, Aichi 4618650 (JP) (For All Designated States Except US).
HATA, Masakatsu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HATA, Masakatsu; (JP)
Agent: ONDA, Hironori; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu 5008731 (JP)
Priority Data:
2009-141538 12.06.2009 JP
Title (EN) HAIR-TREATMENT COMPOSITION AND HAIR-TREATMENT METHOD USING SAME
(FR) COMPOSITION DE TRAITEMENT CAPILLAIRE ET MÉTHODE DE TRAITEMENT CAPILLAIRE UTILISANT CELLE-CI
(JA) 毛髪処理剤組成物及びそれを用いた毛髪処理方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a hair-treatment composition containing an amphoteric surfactant having the structure given in general formula (1), and a sugar nonionic surfactant. In general formula (1), R1 represents a C6–20 alkyl group; R2 represents a methyl group, an ethyl group, or a hydroxyethyl group; R3 represents a methyl group, an ethyl group, or a –CH2COOH group; and n is an integer from 1 to 3.
(FR)La présente invention concerne une composition de traitement capillaire contenant un tensioactif amphotère qui présente la structure donnée dans la formule générale (1), et un tensioactif non ionique de sucre. Dans la formule générale (1), R1 représente un groupe alkyle C6–20, R2 représente un groupe méthyle, un groupe éthyle, ou un groupe hydroxyéthyle, R3 représente un groupe méthyle, un groupe éthyle, ou un groupe –CH2COOH, et n est un nombre entier compris entre 1 et 3.
(JA) 本発明の毛髪処理剤組成物は、一般式(1): で表される構造を有する両性界面活性剤と糖系非イオン性界面活性剤とを含有している。一般式(1)中、Rは炭素数6~20のアルキル基を、Rはメチル基、エチル基又はヒドロキシエチル基を、Rはメチル基、エチル基又は-CHCOOH基を、nは1~3の整数を示す。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)