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1. (WO2010143525) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/143525    International Application No.:    PCT/JP2010/058734
Publication Date: 16.12.2010 International Filing Date: 24.05.2010
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 16-5, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1088215 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUDA Ryuichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSHIDA Kazuto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWANO Yuichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUDA Ryuichi; (JP).
YOSHIDA Kazuto; (JP).
KAWANO Yuichi; (JP)
Agent: MITSUISHI Toshiro; Mitsuishi Law and Patent Office, 9-15, Akasaka 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
Priority Data:
2009-139795 11.06.2009 JP
Title (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置及び方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are a plasma processing apparatus and a plasma processing method wherein particles generated due to the inner potential of an inner cylinder disposed inside of a vacuum container are reduced. The plasma processing apparatus has, inside of a metal vacuum chamber (11), the inner cylinder (15) composed of a surface-alumited aluminum, disposes a substrate in a plasma diffusion region, and performs plasma processing. A plurality of protruding portions (15a) in point-contact with the vacuum chamber (11) are provided on the lower end portion of the inner cylinder (15), the alumite film (16) on the leading end portion (15b) of each of the protruding portion (15a) is removed, and the inner cylinder and the vacuum chamber (11) are electrically connected to each other.
(FR)L'invention porte sur un appareil de traitement au plasma et sur un procédé de traitement au plasma, dans lesquels des particules générées du fait du potentiel interne d'un cylindre interne disposé à l'intérieur d'un récipient à vide sont réduites. L'appareil de traitement au plasma a, à l'intérieur d'une chambre à vide métallique (11), le cylindre interne (15) constitué d'un aluminium ayant de l'alumite en surface, un substrat étant disposé dans une région de diffusion de plasma, et l'appareil effectuant un traitement au plasma. Une pluralité de parties saillantes (15a) en contact ponctuel avec la chambre à vide (11) sont disposées sur la partie d'extrémité inférieure du cylindre interne (15), le film d'alumite (16) sur la partie d'extrémité avant (15b) de chaque partie saillante (15a) est retiré, et le cylindre interne et la chambre à vide (11) sont connectés électriquement l'un à l'autre.
(JA) 真空容器の内部に設置した内筒の内部電位に起因するパーティクルを低減するプラズマ処理装置及び方法を提供する。そのため、金属製の真空チャンバ11の内部に、表面をアルマイト処理したアルミニウムからなる内筒15を有し、プラズマ拡散領域に基板を配置して、プラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、内筒15の下端部に、真空チャンバ11と点接触する複数の突起部15aを設けると共に、突起部15aの先端部15bのアルマイト被覆16を剥離して、真空チャンバ11と電気的に導通させた。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)