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1. (WO2010143344) METAL NANOSHEET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/143344    International Application No.:    PCT/JP2010/002223
Publication Date: 16.12.2010 International Filing Date: 26.03.2010
IPC:
B22F 9/24 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01)
Applicants: SHINSHU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Asahi 3-chome, Matsumoto-shi, Nagano 3908621 (JP) (For All Designated States Except US).
SUGIMOTO, Wataru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUDA, Katsutoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKASU, Yoshio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAIDA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KATO, Hisato [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SUGIMOTO, Wataru; (JP).
FUKUDA, Katsutoshi; (JP).
TAKASU, Yoshio; (JP).
SAIDA, Takahiro; (JP).
KATO, Hisato; (JP)
Agent: YOKOZAWA, Shiro; 1132-18, Shimadachi, Matsumoto-shi, Nagano 3900852 (JP)
Priority Data:
2009-136787 08.06.2009 JP
Title (EN) METAL NANOSHEET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) NANOFEUILLE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION
(JA) 金属ナノシートの製造方法、および金属ナノシート
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing various metal nanosheets involving a lamellar compound preparation step (ST10) for preparing a lamellar compound formed by laminating metal compounds such as metal sulfides, metal oxides, metal hydroxides, or clay minerals, and a reduction step (ST40) in which the metal compounds are reduced to obtain a metal nanosheet that has a lamellar compound as a precursor. In the reduction step (ST40), sintering is performed under a reducing atmosphere. Moreover, a deposition step (ST30), in which a thin film is obtained by depositing the metal compound nanosheets through self-assembly, is performed after a single layer separation step (ST20) and before the reduction step (ST40). Then, in the reduction step (ST30), the metal compounds are reduced while the metal compound nanosheets are arranged to form a thin film, thereby obtaining a metal nanosheet.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'une diversité de nanofeuilles métalliques qui entraîne une étape de préparation de composé lamellaire (ST10) pour préparer un composé lamellaire formé par stratification de composés métalliques tels que des sulfures métalliques, des oxydes métalliques, des hydroxydes métalliques ou des minéraux d'argile, et une étape de réduction (ST40) dans laquelle les composés métalliques sont réduits afin d'obtenir une nanofeuille métallique qui a un composé lamellaire en tant que précurseur. Dans l'étape de réduction (ST40), un frittage est effectué dans une atmosphère réduite. De plus, une étape de dépôt (ST30) est effectuée, dans laquelle un film mince est obtenu par le dépôt des nanofeuilles de composés métalliques par auto-assemblage, après une unique étape de séparation de couche (ST20) et avant l'étape de réduction (ST40). Ensuite, dans l'étape de réduction (ST30), les composés métalliques sont réduits tandis que les nanofeuilles de composés métalliques sont disposées de façon à former un film mince, afin d'obtenir une nanofeuille métallique.
(JA) 各種の金属ナノシートを製造するにあたって、金属硫化物、金属酸化物、金属水酸化物、粘土鉱物等の金属化合物が層状に重なる層状化合物を準備する層状化合物準備工程(ST10)と、金属化合物を還元して層状化合物を前駆体とする金属ナノシートを得る還元工程(ST40)とを行なう。還元工程(ST40)では、還元性雰囲気下での焼成処理を行なう。また、単層剥離工程(ST20)の後、還元工程(ST40)の前に、金属化合物ナノシートを自己組織化により堆積させて薄膜を得る堆積工程(ST30)を行い、還元工程(ST40)では、金属化合物ナノシートの薄膜の状態で金属化合物を還元して金属ナノシートを得る。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)