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1. (WO2010142497) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR REDUCING STRAY RADIATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/142497    International Application No.:    PCT/EP2010/056006
Publication Date: 16.12.2010 International Filing Date: 04.05.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US).
DIERICHS, Marcel [NL/NL]; (NL) (For US Only).
EURLINGS, Markus [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN GREEVENBROEK, Hendrikus [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VERWEIJ, Antonie [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: DIERICHS, Marcel; (NL).
EURLINGS, Markus; (NL).
VAN GREEVENBROEK, Hendrikus; (NL).
VERWEIJ, Antonie; (NL)
Priority Data:
61/185,487 09.06.2009 US
Title (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR REDUCING STRAY RADIATION
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE RÉDUCTION D'UN RAYONNEMENT PARASITE
Abstract: front page image
(EN)There is provided a lithographic apparatus comprising an illumination system IL for providing a beam B of extreme ultra-violet radiation, a masking device MB for controlling the illumination of a patterning device MA by the beam of radiation, a support MT for supporting the patterning device, the patterning device configured to impart a pattern to the beam of radiation, a substrate table WT for holding a substrate W, and a projection system PL for projecting the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, wherein the masking device MD comprises a masking blade MB configured to reflect extreme ultra-violet radiation incident on the masking blade such that at least a portion of the reflected radiation is not captured by the projection system.
(FR)La présente invention concerne un appareil lithographique comprenant un système d'éclairage (IL) permettant de fournir un faisceau (B) d'un rayonnement ultraviolet extrême, un dispositif de masquage (MB) permettant de commander l'éclairage d'un dispositif de réalisation de motif (MA) par le faisceau de rayonnement, un support (MT) permettant de soutenir le dispositif de réalisation de motif, ce dernier étant conçu pour conférer un motif au faisceau de rayonnement, une table de substrat (WT) permettant de tenir un substrat (W), et un système de projection (PL) permettant de projeter le faisceau de rayonnement à motif sur une partie cible du substrat. Le dispositif de masquage (MD) comprend une lame de masquage (MB) conçue pour réfléchir le rayonnement ultraviolet extrême incident sur la lame de masquage de telle sorte qu'au moins une partie du rayonnement réfléchi ne soit pas capturée par le système de projection.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)