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1. (WO2010140600) SURFACE-EMITTING LASER ELEMENT, SURFACE-EMITTING LASER ARRAY, OPTICAL SCANNING APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SURFACE-EMITTING LASER ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/140600    International Application No.:    PCT/JP2010/059296
Publication Date: 09.12.2010 International Filing Date: 26.05.2010
IPC:
H01S 5/183 (2006.01)
Applicants: RICOH COMPANY, LTD. [JP/JP]; 3-6, Nakamagome 1-chome, Ohta-ku, Tokyo 1438555 (JP) (For All Designated States Except US).
HIGASHI, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HARASAKA, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIGASHI, Yasuhiro; (JP).
HARASAKA, Kazuhiro; (JP)
Agent: ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-chome, Shibuya-ku, Tokyo 1506032 (JP)
Priority Data:
2009-134907 04.06.2009 JP
2010-023994 05.02.2010 JP
Title (EN) SURFACE-EMITTING LASER ELEMENT, SURFACE-EMITTING LASER ARRAY, OPTICAL SCANNING APPARATUS, IMAGE FORMING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SURFACE-EMITTING LASER ELEMENT
(FR) ELÉMENT LASER À ÉMISSION PAR LA SURFACE, RÉSEAU LASER À ÉMISSION PAR LA SURFACE, APPAREIL DE BALAYAGE OPTIQUE, APPAREIL DE FORMATION D'IMAGES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT LASER À ÉMISSION PAR LA SURFACE
Abstract: front page image
(EN)A method of manufacturing a surface- emitting laser element having a light-emitting mesa structure with an emitting area including a high- reflectance portion and a low-reflectance portion includes forming a layered body that includes a lower reflecting mirror, a cavity structure, and an upper reflecting mirror on a substrate; forming a first area on an upper surface of the layered body; forming a second area having the same size as the first area on the upper surface of the layered body; forming a light-emitting mesa structure and a monitoring-mesa structure by etching the first area and the second area, respectively; forming a confinement structure including a current passage area surrounded by an oxide in the light-emitting mesa structure and the monitoring-mesa structure; and measuring the size of the current passage area of the monitoring-mesa structure.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d'un élément laser à émission par la surface comprenant une structure mesa d'émission de lumière pourvue d'une zone émettrice comprenant une partie à forte réflectance et une partie à faible réflectance. Le procédé selon l'invention consiste : à former un corps multicouche comprenant un miroir réfléchissant inférieur, une structure à cavités et un miroir réfléchissant supérieur sur un substrat ; à former une première zone sur une surface supérieure du corps multicouche ; à former une seconde zone ayant la même dimension que la première zone sur la surface supérieure du corps multicouche ; à former une structure mesa d'émission de lumière et une structure mesa de surveillance en gravant la première zone et la seconde zone, respectivement ; à former une structure de confinement comprenant une zone de passage actuel entourée par un oxyde dans la structure mesa d'émission de lumière et la structure mesa de surveillance ; et à mesurer la dimension de la zone de passage actuel de la structure mesa de surveillance.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)