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1. (WO2010140571) TITANIUM PLATE AND PROCESS FOR PRODUCING TITANIUM PLATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/140571    International Application No.:    PCT/JP2010/059223
Publication Date: 09.12.2010 International Filing Date: 31.05.2010
IPC:
C23C 8/80 (2006.01), B21B 3/00 (2006.01), C22C 14/00 (2006.01), C23G 1/10 (2006.01), C23G 1/32 (2006.01)
Applicants: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO [JP/JP]; 10-26, Wakinohama-cho 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585 (JP) (For All Designated States Except US).
KATSURA Shoo; (For US Only).
ITO Yoshinori; (For US Only).
ITSUMI Yoshio; (For US Only).
MURAKAMI Shogo; (For US Only)
Inventors: KATSURA Shoo; .
ITO Yoshinori; .
ITSUMI Yoshio; .
MURAKAMI Shogo;
Agent: OGURI Shohei; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2009-134379 03.06.2009 JP
Title (EN) TITANIUM PLATE AND PROCESS FOR PRODUCING TITANIUM PLATE
(FR) PLAQUE DE TITANE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE DE TITANE
(JA) チタン板およびチタン板の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are a titanium plate which has satisfactory seizing resistance and crack resistance, whereby the plate exhibits excellent press formability, and a process for producing the titanium plate. The titanium plate (10) comprises a titanium base (1) and a hard layer (2) partly formed on the surface thereof. The hard layer (2) has been formed so that when the surface of the titanium plate (10) is viewed through an examination image bearing a plurality of squares (M) in which each side of each square (M) has a length (W) of 10 µm, then the average of all dimensions of the hard layer (2) that are measured along the lines (S) constituting the squares (M) and crossing the surface of the hard layer (2) is 5-200 µm per mm2 of the surface of the titanium plate (10). The process for producing the titanium plate (10) comprises a hard-layer formation step in which a hard layer (2) is formed on the surface of a titanium base (1) and a hard-layer removal step in which the hard layer (2) is partly removed.
(FR)L'invention concerne une plaque de titane qui présente une résistance au grippage et une résistance à la fissuration satisfaisantes, la plaque présentant une excellente aptitude à la formation sous presse, et un procédé de production de la plaque de titane. La plaque de titane (10) comprend une base de titane (1) et une couche dure (2) partiellement formée sur sa surface. La couche dure (2) est formée de façon à ce que la surface de la plaque de titane (10) soit visualisée par une image d'examen portant une pluralité de carrés (M), chaque côté de chaque carré (M) ayant une longueur (W) de 10 µm, la moyenne de toutes les dimensions de la couche dure (2) qui sont mesurées le long des lignes (S) constituant les carrés (M) et croisant la surface de la couche dure (2) étant de 5-200 µm par mm2 de la surface de la plaque de titane (10). Le procédé de production de la plaque de titane (10) comprend une étape de formation de la couche dure dans laquelle la couche dure (2) est formée sur la surface d'une base de titane (1) et une étape de retrait de la couche dure dans laquelle la couche dure (2) est partiellement retirée.
(JA) 本発明は、良好な耐焼付き性および耐割れ性を有することにより、優れたプレス成形性を発揮するチタン板およびチタン板の製造方法を提供する。本発明に係るチタン板10においては、チタン素材1の表面に、硬質層2が部分的に形成される。硬質層2は、チタン板10の表面を複数のマス目状の観察画像上で観察した際において、各マス目Mの各辺(各辺の長さW)が10μmであるときに、チタン板10の表面における1mmあたりの面積において、マス目Mを構成する直線Sが硬質層2のそれぞれの表面を横切る位置における硬質層2の長さの全平均が、5~200μmとなるように形成されている。本発明に係るチタン板10の製造方法は、チタン素材1の表面に硬質層2を形成する硬質層形成工程と、硬質層2を部分的に除去する硬質層除去工程と、を含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)