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1. (WO2010140561) DEGREASING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/140561    International Application No.:    PCT/JP2010/059194
Publication Date: 09.12.2010 International Filing Date: 31.05.2010
IPC:
C11D 17/08 (2006.01), C11D 3/04 (2006.01), C11D 3/08 (2006.01), C11D 3/20 (2006.01), C11D 3/33 (2006.01), C23G 1/14 (2006.01)
Applicants: YUKEN INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 50, Bawari, Noda-cho, Kariya-shi, Aichi 4488511 (JP) (For All Designated States Except US).
NOJIMA Naruhiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISHIHARA Yusaku [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMAMOTO Hideyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NOJIMA Naruhiko; (JP).
ISHIHARA Yusaku; (JP).
YAMAMOTO Hideyuki; (JP)
Agent: HAYAKAWA Yuzi; Sansui Patent Firm, 4th Floor, Akasaka Wing Bldg., 6-6-15, Akasaka, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
Priority Data:
2009-132286 01.06.2009 JP
Title (EN) DEGREASING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSITION DÉGRAISSANTE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE-CI
(JA) 脱脂組成物およびその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a degreasing composition for preparing a cleaning liquid, said degreasing composition being in the form of a slurry and suppressed in crystallization during low-temperature storage, while placing little burden on the environment. The method for producing a degreasing composition comprises a step of obtaining a slurry by mixing a first liquid and a silicate powder having a particle diameter of 0.2-10 mm (inclusive). The first liquid contains an alkaline component composed of either sodium hydroxide and/or potassium hydroxide, an alcohol having 3 or less carbon atoms, and water. The degreasing composition contains, relative to the total mass of the composition, 10-60% by mass (inclusive) of the alkaline component, 0.1-5% by mass (inclusive) of the alcohol, 1-50% by mass (inclusive) of the silicate, and 20-50% by mass (inclusive) of water including hydrated water of the silicate, but does not contain a chelating agent.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une composition dégraissante à l'état de pâte destinée à la préparation d'un liquide de lavage dont la cristallisation lors d'un stockage à basse température est évitée et qui de plus a un faible impact sur l'environnement. Le procédé de l'invention comprend une étape d'obtention d'une pâte par le mélange d'un premier liquide et d'un silicate en poudre dont la taille des grains est au moins de 0,2 mm et au plus de 10 mm. Ledit premier liquide contient: un composant alcalin constitué au moins d'hydroxyde de sodium et / ou d'hydroxyde de potassium, un alcool possédant 3 atomes de carbone ou moins, et de l'eau. Ladite composition dégraissante contient, relativement à la quantité totale de la composition: au moins 10% en poids et au plus 60% en poids dudit composant alcalin, au moins 0,1% en poids et au plus 5% en poids dudit alcool, au moins 1% en poids et au plus 50% en poids dudit silicate, et au moins 20% en poids et au plus 50% en poids d'une eau qui comprend l'eau d'hydratation du silicate; et ne contient pas de chélateur.
(JA) 低温保管時の結晶化が抑制され、しかも環境負荷が少ない洗浄液を調製するためのスラリー状の脱脂組成物の製造方法として、第1の液体と粒径が0.2mm以上10mm以下の粉状の珪酸塩とを混合してスラリーを得る工程を備え、前記第1の液体は、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムの少なくとも一種からなるアルカリ成分と、炭素数3以下のアルコールと、水とを含有し、前記脱脂組成物は、全組成物に対して、10質量%以上60質量%以下の前記アルカリ成分と、0.1質量%以上5質量%以下の前記アルコールと、1質量%以上50質量%以下の前記珪酸塩と、20質量%以上50質量%以下の珪酸塩の水和水を含む水とを含有し、キレート剤を含有しない製造方法が提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)