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1. (WO2010140505) LASER ANNEALING METHOD AND LASER ANNEALING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/140505    International Application No.:    PCT/JP2010/058787
Publication Date: 09.12.2010 International Filing Date: 25.05.2010
IPC:
H01L 21/268 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), B23K 26/02 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01), H01L 21/336 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01)
Applicants: V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP) (For All Designated States Except US).
KAJIYAMA, Koichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIZUMURA, Michinobu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAJIYAMA, Koichi; (JP).
MIZUMURA, Michinobu; (JP)
Agent: SASAJIMA, Fujio; 7th Floor, Akasaka Eight One Building, 13-5, Nagata-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000014 (JP)
Priority Data:
2009-134181 03.06.2009 JP
Title (EN) LASER ANNEALING METHOD AND LASER ANNEALING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE RECUIT AU LASER
(JA) レーザアニール方法及びレーザアニール装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method comprising: picking up an image of a surface of a substrate by use of an image pickup means while transporting the substrate in any one array direction of the horizontal and vertical array directions in which TFT formation regions set up in a matrix extend; based on the thus picked-up image, detecting an alignment reference position previously set up on the surface of the substrate; moving, in a direction intersecting the substrate transport direction, at least one lens array having a plurality of lens arranged in the direction intersecting the substrate transport direction so as to correspond to the multiple TFT formation regions, and aligning the lenses of the lens array with the TFT formation regions of the substrate with reference to the alignment reference position; irradiating the lens array with laser light when the TFT formation regions arrive at locations directly under corresponding lenses of the lens array with the movement of the substrate; and annealing amorphous silicon films of the respective TFT formation regions by collecting laser light by use of the plurality of lenses. Thereby, positional accuracy of laser light irradiation is improved by having the microlens array moved in such a manner as to follow the movement of the transported substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé comportant les étapes consistant à : capturer une image d'une surface d'un substrat en utilisant un moyen de capture d'image tout en transportant le substrat dans une quelconque direction de matrice parmi les directions horizontale et verticale de matrice où s'étendent les régions de formation de TFT définies dans une matrice ; sur la base de l'image ainsi capturée, détecter une position de référence d'alignement définie auparavant sur la surface du substrat ; déplacer, dans une direction concourante à la direction de transport du substrat, au moins un réseau de lentilles doté d'une pluralité de lentilles agencées dans la direction concourante à la direction de transport du substrat de façon à correspondre aux régions multiples de formation de TFT, et aligner les lentilles du réseau de lentilles avec les régions de formation de TFT du substrat en se référant à la position de référence d'alignement ; irradier le réseau de lentilles avec une lumière laser lorsque les régions de formation de TFT arrivent à des emplacements situés immédiatement au-dessous de lentilles correspondantes du réseau de lentilles suite au mouvement du substrat ; et recuire des films de silicium amorphe des régions respectives de formation de TFT en concentrant la lumière laser à l'aide de la pluralité de lentilles. La précision de positionnement de l'irradiation par la lumière laser est ainsi améliorée en déplaçant le réseau de micro-lentilles de manière à suivre le mouvement du substrat transporté.
(JA) 本発明は、マトリクス状に設定されたTFT形成領域の縦横いずれか一方の配列方向に基板を搬送しながら撮像手段により基板表面を撮像し、該撮像画像に基づいて基板表面に予め設定されたアライメントの基準位置を検出し、複数のTFT形成領域に対応して基板の搬送方向と交差する方向に複数のレンズを配置した少なくとも一列のレンズアレイを基板の搬送方向と交差方向に移動して、レンズアレイのレンズと基板のTFT形成領域とをアライメント基準位置を基準にして位置合わせし、基板が移動してTFT形成領域がレンズアレイの対応レンズの真下に到達したときにレンズアレイにレーザ光を照射し、複数のレンズによりレーザ光を集光して各TFT形成領域のアモルファスシリコン膜をアニール処理する。これにより、搬送される基板の動きに追従してマイクロレンズアレイを移動してレーザ光の照射位置精度を向上する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)