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1. (WO2010140483) FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION, TOP COAT COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2010/140483 International Application No.: PCT/JP2010/058540
Publication Date: 09.12.2010 International Filing Date: 20.05.2010
IPC:
C08F 20/22 (2006.01) ,C07C 69/653 (2006.01) ,C07C 69/732 (2006.01) ,C08F 12/14 (2006.01) ,C08F 16/12 (2006.01) ,C08F 32/08 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01)
Applicants: MORI, Kazunori; null (UsOnly)
HAGIWARA, Yuji; null (UsOnly)
NAGAMORI, Masashi; null (UsOnly)
ISONO, Yoshimi; null (UsOnly)
NARIZUKA, Satoru; null (UsOnly)
MAEDA, Kazuhiko; null (UsOnly)
CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED[JP/JP]; 5253,Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP (AllExceptUS)
Inventors: MORI, Kazunori; null
HAGIWARA, Yuji; null
NAGAMORI, Masashi; null
ISONO, Yoshimi; null
NARIZUKA, Satoru; null
MAEDA, Kazuhiko; null
Agent: HASHIMOTO, Takeshi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044, JP
Priority Data:
2009-13191901.06.2009JP
Title (EN) FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION, TOP COAT COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSÉ FLUORÉ, COMPOSÉ DE POLYMÈRE FLUORÉ, COMPOSITION DE RÉSERVE, COMPOSITION DE REVÊTEMENT SUPÉRIEUR ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF
(JA) 含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物、トップコート組成物及びパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN) The disclosed fluorine-containing polymer compound is a resin containing a repeating unit (a) represented by general formula (2) with a mass average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. Said resin is suitable for use in resist compositions for forming patterns using an electron beam or a high-energy ray with a wavelength of 300nm or less and in top coat compositions used in liquid immersion lithography. Said resin is characterized by having water-repellent properties and particularly, a large receding contact angle. (In the formula, R1 represents a group containing a polymerizable double-bond, R2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group, R8 represents a substituted or non-substituted alkyl group or the like, and W1 represents a single bond, a substituted or non-substituted methylene group or the like.)
(FR) L'invention porte sur un composé de polymère fluoré qui est une résine contenant un motif répété (a) représenté par la formule générale (2) ayant une masse moléculaire moyenne en masse de 1 000 à 1 000 000. Ladite résine est appropriée pour être utilisée dans des compositions de réserve pour la formation de motifs à l'aide d'un faisceau d'électrons ou d'un rayonnement d'énergie élevé ayant une longueur d'onde inférieure ou égale à 300 nm et dans des compositions de revêtement supérieur utilisées en lithographie par immersion dans un liquide. Ladite résine est caractérisée en ce qu'elle a des propriétés hydrofuges et en particulier un grand angle de contact sortant. (Dans la formule, R1 représente un groupe contenant une double liaison polymérisable, R2 représente un atome de fluor ou un groupe alkyle fluoré, R8 représente un groupe alkyle substitué ou non substitué ou similaire et W1 représente une simple liaison, un groupe méthylène substitué ou non substitué ou similaire.)
(JA)  本発明の含フッ素高分子化合物は、一般式(2)で表される繰り返し単位(a)を含み、質量平均分子量1,000~1,000,000の樹脂である。該樹脂は、300nm以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、及び液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に好適に使用でき、撥水性、特に後退接触角が大きいことを特徴とする。 (式中、R1は重合性二重結合含有基を示し、R2はフッ素原子又は含フッ素アルキル基を示し、R8は置換もしくは非置換のアルキル基などを示し、W1は単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを示す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)