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1. (WO2010140307) METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY PANEL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/140307    International Application No.:    PCT/JP2010/003336
Publication Date: 09.12.2010 International Filing Date: 18.05.2010
Chapter 2 Demand Filed:    07.10.2010    
IPC:
H01J 9/26 (2006.01), G09G 3/28 (2006.01), G09G 3/288 (2006.01), H01J 9/385 (2006.01), H01J 9/395 (2006.01), H01J 9/40 (2006.01), H01J 11/02 (2006.01)
Applicants: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (For All Designated States Except US).
YAMAUCHI, Yasuhiro; (For US Only).
SAKAI, Masahiro; (For US Only).
FUKUI, Yusuke; (For US Only).
OKADA, Keisuke; (For US Only)
Inventors: YAMAUCHI, Yasuhiro; .
SAKAI, Masahiro; .
FUKUI, Yusuke; .
OKADA, Keisuke;
Agent: NAKAJIMA, Shiro; 6F, Yodogawa 5-Bankan, 2-1, Toyosaki 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5310072 (JP)
Priority Data:
2009-132973 02.06.2009 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉCRAN D'AFFICHAGE À PLASMA
(JA) プラズマディスプレイパネルの製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a method for producing a plasma display panel (PDP), which makes it possible, even in a PDP provided with high-resolution cells, to effectively prevent impurities from being adsorbed to a protection layer, and to achieve excellent image display performance while reducing power consumption. Specifically, a back surface substrate (9) is fired in a calcination process having a maximum temperature lower than the softening point of a sealing material. The back surface substrate (9) and a front surface substrate (2) are placed upon one another, and a sealing process is carried out in a sealing atmosphere obtained by adding a predetermined amount of a reducing gas to a non-oxidative gas. Thereby, impurities attributable to organic components associated with a sealing material paste remain in a low-molecule state. Then, these impurities are removed by means of exhaust gas in an exhaust process following the sealing process, thereby preventing the impurities from being adsorbed to the protection layer (8).
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d'un PDP qui permet, même dans un PDP comprenant des cellules haute résolution, d'empêcher efficacement l'adsorption d'impuretés sur une couche de protection et de réaliser d'excellentes performances d'affichage d'images tout en réduisant la consommation d'énergie. De façon plus spécifique, un substrat arrière (9) est temporairement cuit au cours d'un processus de cuisson temporaire durant lequel la température maximum est réglée plus bas que le point de ramollissement d'un matériau d'étanchéité. Avec le substrat arrière (9) et un substrat avant (2) placés l'un en dessus de l'autre, un processus de soudage étanche est exécuté dans une atmosphère de soudage étanche obtenue en ajoutant une quantité prédéterminée d'un gaz réducteur à un gaz non oxydant. De cette façon, des impuretés attribuables à des éléments organiques associés à un matériau d'étanchéité en pâte sont laissées dans un état moléculaire faible. Ensuite, ces impuretés sont éliminées au moyen d'un gaz d'évacuation au cours d'un processus d'évacuation consécutif au processus de soudage étanche, l'adsorption d'impuretés sur la couche de protection (8) étant ainsi efficacement empêchée.
(JA)本発明は、高精細セルを有するPDPでも保護層への不純物の吸着を効果的に防止し、優れた画像表示性能を消費電力の低減を図りつつ発揮できるPDPの製造方法を提供する。 具体的には仮焼成工程において、前記封着材の軟化点未満を最高温度として背面基板(9)を仮焼成する。背面基板(9)を前面基板(2)と重ね、非酸化性ガスに還元性ガスを所定量添加した封着雰囲気中で封着工程を行う。これにより、封着材ペーストに起因する有機成分による不純物を低分子状態で残存させ、封着工程後の排気工程でこれを排気除去し、不純物の保護層(8)への吸着を防止する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)