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1. (WO2010138930) TPIR APPARATUS FOR MONITORING TUNGSTEN HEXAFLUORIDE PROCESSING TO DETECT GAS PHASE NUCLEATION, AND METHOD AND SYSTEM UTILIZING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/138930    International Application No.:    PCT/US2010/036747
Publication Date: 02.12.2010 International Filing Date: 28.05.2010
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. [US/US]; 7 Commerce Drive Danbury, CT 06810-4169 (US) (For All Designated States Except US).
ARNO, Jose I. [US/US]; (US) (For US Only).
DESPRES, Joseph [--/US]; (US) (For US Only).
LETAJ, Shkelqim [US/US]; (US) (For US Only).
LURCOTT, Steven M. [US/US]; (US) (For US Only).
BAUM, Thomas H. [US/US]; (US) (For US Only).
ZOU, Peng [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: ARNO, Jose I.; (US).
DESPRES, Joseph; (US).
LETAJ, Shkelqim; (US).
LURCOTT, Steven M.; (US).
BAUM, Thomas H.; (US).
ZOU, Peng; (US)
Agent: HULTQUIST, Steven J.; Intelectual Property Technology Law PO Box 14329 Research Triangle Park, NC 27709 (US)
Priority Data:
61/182,527 29.05.2009 US
Title (EN) TPIR APPARATUS FOR MONITORING TUNGSTEN HEXAFLUORIDE PROCESSING TO DETECT GAS PHASE NUCLEATION, AND METHOD AND SYSTEM UTILIZING SAME
(FR) APPAREIL DE TPIR PERMETTANT DE SURVEILLER UN PROCESSUS DE TRAITEMENT DE L'HEXAFLUORURE DE TUNGSTÈNE AFIN DE DÉTECTER UNE NUCLÉATION EN PHASE GAZEUSE, ET PROCÉDÉ ET SYSTÈME L'UTILISANT
Abstract: front page image
(EN)Apparatus and method for monitoring a vapor deposition installation in which a gas mixture can undergo gas phase nucleation (GPN) and/or chemically attack the product device, under process conditions supportive of such behavior. The apparatus includes a radiation source arranged to transmit source radiation through a sample of the gas mixture, and a thermopile detector assembly arranged to receive output radiation resulting from interaction of the source radiation with the gas mixture sample, and to responsively generate an output indicative of onset of the gas phase nucleation and/or chemical attack when such onset occurs. Such monitoring apparatus and methodology is useful in tungsten CVD processing to achieve high rate tungsten film growth without GPN or chemical attack.
(FR)La présente invention concerne un appareil et un procédé de surveillance d'installations de dépôt en phase vapeur dans lesquelles un mélange gazeux peut faire l'objet d'une nucléation en phase gazeuse (GPN) et/ou attaquer chimiquement le dispositif dans des conditions de traitement favorisant un tel comportement. Ledit appareil comprend une source de rayonnement disposée de façon à transmettre le rayonnement source à travers un échantillon de mélange gazeux et un ensemble détecteur à thermopile disposé de façon à recevoir le rayonnement de sortie résultant de l'interaction entre le rayonnement source et l'échantillon de mélange gazeux, et capable de générer en réponse des données de sortie révélatrices de l'apparition d'une nucléation en phase gazeuse et/ou d'une attaque chimique le cas échéant. Ledit appareil et ladite méthodologie de surveillance se révèlent utiles dans le cadre d'un traitement de type dépôt en phase vapeur de tungstène si l'on souhaite obtenir une production rapide d'un film de tungstène sans GPN ni attaque chimique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)