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Pub. No.:    WO/2010/138139    International Application No.:    PCT/US2009/062473
Publication Date: 02.12.2010 International Filing Date: 29.10.2009
H05K 9/00 (2006.01), G01R 29/08 (2006.01)
Applicants: ORBIT ADVANCED TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 506 Prudential Road Horsham, PA 19044 (US) (For All Designated States Except US).
WINEBRAND, Mark [IL/US]; (US) (For US Only).
AUBIN, John, F. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: WINEBRAND, Mark; (US).
AUBIN, John, F.; (US)
Agent: CRILLY, Michael, G.; Law Offices of Michael Crilly 104 South York Road Hatboro, PA 19040 (US)
Priority Data:
61/181,880 28.05.2009 US
Abstract: front page image
(EN)An electromagnetic absorber assembly (10) capable of minimizing reflectivity caused by reflected and diffracted waves within a test chamber (1) is presented. The absorber assembly (1) includes a plurality of first wedges (11) and a plurality of second wedges (11) disposed in a symmetrical arrangement so as to form a continuous and smoothly changing v-shaped pattern along one or more walls (5-7) of an anechoic test chamber (1). Each wedge (11) has a triangular- shaped first end (26) and second end (27) formed by a pair of side walls (16, 18, or 19) and a base wall (17). One second end (27) of each first wedge (11) contacts and covers one first end (26) of each second wedge (11) along a contact plane (15). First and second wedges (11) are disposed at a first angle (46) and a second angle (47), respectively, about the contact plane (15) in a symmetrical arrangement. The assemblies described could be installed on a flat or shaped absorber base (44) or wall (20) to divert reflected and refracted fields away from a quiet zone (3). Interplay between the shaped absorber base (44) or wall (20) and intersecting wedges (11) facilitates minimization of clutter and secondary scattering.
(FR)L'invention porte sur un ensemble absorbant le rayonnement électromagnétique (10) capable de rendre minimale une réflectivité provoquée par des ondes réfléchies et difractées à l'intérieur d'une chambre de test (1). L'ensemble absorbeur (1) comprend une pluralité de premiers coins (11) et une pluralité de seconds coins (11) disposés dans un agencement symétrique de façon à former un motif en forme de v à changement continu et lisse le long d'une ou plusieurs parois (5-7) d'une chambre de test anéchoïque (1). Chaque coin (11) a une première extrémité en forme de triangle (26) et une seconde extrémité (27) formée par une paire de parois latérales (16, 18, ou 19) et une paroi de base (17). Une seconde extrémité (27) de chaque premier coin (11) entre en contact et recouvre une première extrémité (26) de chaque second coin (11) le long d'un plan de contact (15). Des premier et second coins (11) sont disposés à un premier angle (46) et un second angle (47), respectivement, autour du plan de contact (15) dans un agencement symétrique. Les ensembles décrits pourraient être installés sur une base d'absorbeur plate ou façonnée (44) ou une paroi (20) pour dévier des champs réfléchis et réfractés à distance d'une zone silencieuse (3). Une influence réciproque entre la base d'absorbeur façonnée (44) ou une paroi (20) et des coins intersectants (11) facilite une minimisation de fouillis d'écho et de diffusion secondaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)