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1. (WO2010137389) METHOD OF MANUFACTURING SURFACE EMITTING LASER, AND SURFACE EMITTING LASER, SURFACE EMITTING LASER ARRAY, OPTICAL SCANNING DEVICE, AND IMAGE FORMING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/137389    International Application No.:    PCT/JP2010/054741
Publication Date: 02.12.2010 International Filing Date: 15.03.2010
IPC:
H01S 5/183 (2006.01)
Applicants: RICOH COMPANY, LTD. [JP/JP]; 3-6, Nakamagome 1-chome, Ohta-ku, Tokyo 1438555 (JP) (For All Designated States Except US).
SHOUJI, Hiroyoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SATO, Shunichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ITOH, Akihiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HARASAKA, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHOUJI, Hiroyoshi; (JP).
SATO, Shunichi; (JP).
ITOH, Akihiro; (JP).
HARASAKA, Kazuhiro; (JP)
Agent: ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-chome, Shibuya-ku, Tokyo 1506032 (JP)
Priority Data:
2009-128434 28.05.2009 JP
2010-009820 20.01.2010 JP
Title (EN) METHOD OF MANUFACTURING SURFACE EMITTING LASER, AND SURFACE EMITTING LASER, SURFACE EMITTING LASER ARRAY, OPTICAL SCANNING DEVICE, AND IMAGE FORMING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN LASER À ÉMISSION DE SURFACE ET LASER À ÉMISSION DE SURFACE, RÉSEAU DE LASERS À ÉMISSION DE SURFACE, DISPOSITIF DE BALAYAGE OPTIQUE ET APPAREIL DE FORMATION D'IMAGE
Abstract: front page image
(EN)A disclosed method of manufacturing a surface emitting laser includes laminating a transparent dielectric layer on an upper surface of a laminated body; forming a first resist pattern on an upper surface of the dielectric layer, the first resist pattern including a pattern defining an outer perimeter of a mesa structure and a pattern protecting a region corresponding to one of the relatively high reflection rate part and the relatively low reflection rate part included in an emitting region; etching the dielectric layer by using the first resist pattern as an etching mask; and forming a second resist pattern protecting a region corresponding to an entire emitting region. These steps are performed before the mesa structure is formed.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un laser à émission de surface comprenant la stratification d'une couche diélectrique transparente sur la surface supérieure d'un corps stratifié, la formation d'une première configuration de réserve sur la surface supérieure de la couche diélectrique, la première configuration de réserve comprenant une configuration définissant un périmètre extérieur d'une mésa-structure et une configuration protégeant une région correspondant soit à la partie à vitesse de réflexion relativement élevée, soit à la partie à vitesse de réflexion relativement faible comprises dans la région d'émission, la gravure de la couche diélectrique à l'aide de la première configuration de réserve sous la forme d'un masque de gravure, et la formation d'une seconde configuration de réserve protégeant une région correspondant à une région entière d'émission. On exécute ces étapes avant que la structure-mésa ne soit formée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)