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1. (WO2010137368) METHOD FOR PRODUCING WAFER LENS, AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING WAFER LENS LAMINATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/137368    International Application No.:    PCT/JP2010/052730
Publication Date: 02.12.2010 International Filing Date: 23.02.2010
IPC:
B29C 39/10 (2006.01), B29C 39/42 (2006.01), B29C 39/44 (2006.01), B29C 65/48 (2006.01), B29C 65/78 (2006.01), G02B 3/00 (2006.01), B29K 101/10 (2006.01), B29L 11/00 (2006.01)
Applicants: Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (For All Designated States Except US).
SARUYA Nobuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
EGURO Kouichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SARUYA Nobuhiro; (JP).
EGURO Kouichi; (JP)
Priority Data:
2009-131044 29.05.2009 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING WAFER LENS, AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING WAFER LENS LAMINATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE LENTILLE MINCE ET PROCÉDÉ ET APPAREIL DE PRODUCTION D'UN STRATIFIÉ DE LENTILLE MINCE
(JA) ウエハレンズの製造方法及びウエハレンズ積層体の製造方法並びに製造装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a wafer lens, wherein misalignment between a glass substrate and a molding mold is suppressed from occurring. The method for producing a wafer lens comprises: a step wherein, in a first reduced pressure atmosphere, an energy-curable resin is arranged between a glass substrate (11) and a molding mold, and the glass substrate (11) is pressed against the molding mold, while sucking the glass substrate (11) and affixing the molding mold; a step wherein, in a second reduced pressure atmosphere that is under a higher pressure than the first reduced pressure atmosphere, the arrangement of the glass substrate (11) and the molding mold is adjusted while sucking the glass substrate (11) and affixing the molding mold; and a step wherein the energy-curable resin is cured by applying energy to the energy-curable resin, and the glass substrate (11) is released from the molding mold.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'une lentille mince, le décentrage entre un substrat de verre et un moule de moulage étant supprimé. Le procédé de production d'une lentille mince comprend : une étape au cours de laquelle, dans une première atmosphère de pression réduite, une résine pouvant durcir par application d'énergie est placée entre un substrat de verre (11) et un moule de moulage, et le substrat de verre (11) est pressé contre le moule de moulage, tout en aspirant le substrat de verre (11) et en apposant le moule de moulage ; une étape au cours de laquelle, dans une seconde atmosphère de pression réduite qui présente une pression supérieure à la première atmosphère de pression réduite, l'agencement du substrat de verre (11) et du moule de moulage est ajusté, tout en aspirant le substrat de verre (11) et en apposant le moule de moulage ; et une étape au cours de laquelle la résine pouvant durcir par application d'énergie est durcie par l'application d'énergie à la résine pouvant durcir par application d'énergie, et le substrat de verre (11) est libéré du moule de moulage.
(JA)本発明は、ガラス基板と成形型との間で位置ズレが発生するのを抑制するウエハレンズの製造方法を提供する。第1の減圧雰囲気下で、ガラス基板(11)と成形型との間にエネルギー性硬化樹脂を配置し、ガラス基板(11)を吸着し前記成形型を固定しながら、ガラス基板(11)を前記成形型に押圧する工程と、前記第1の減圧雰囲気より高圧の第2の減圧雰囲気下で、ガラス基板(11)を吸着しかつ前記成形型を固定しながら、ガラス基板(11)と前記成形型との配置を調整する工程と、前記エネルギー性硬化樹脂に対してエネルギーを与えて前記エネルギー性硬化樹脂を硬化させ、前記成形型からガラス基板(11)を離型する工程と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)