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1. (WO2010124301) METHODS AND DEVICES FOR AN ELECTRICALLY NON-RESISTIVE LAYER FORMED FROM AN ELECTRICALLY INSULATING MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/124301    International Application No.:    PCT/US2010/032464
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 26.04.2010
IPC:
H01L 31/042 (2006.01)
Applicants: OETTING, Wolf [DE/US]; (US).
ADRIANI, Paul [US/US]; (US)
Inventors: OETTING, Wolf; (US).
ADRIANI, Paul; (US)
Agent: TUNG, Hao, Y.; 5521 Hellyer Avenue San Jose, CA 95138 (US)
Priority Data:
61/172,357 24.04.2009 US
61/185,559 09.06.2009 US
Title (EN) METHODS AND DEVICES FOR AN ELECTRICALLY NON-RESISTIVE LAYER FORMED FROM AN ELECTRICALLY INSULATING MATERIAL
(FR) PROCÉDÉS ET DISPOSITIFS POUR OBTENIR UNE COUCHE ÉLECTRIQUEMENT NON-RÉSISTANTE À PARTIR D'UN MATÉRIAU ISOLANT ÉLECTRIQUE
Abstract: front page image
(EN)A method is described that provides a current carrying substrate and individually controlling film characteristics for a material being simultaneously formed on both sides of the substrate so as to provide a first layer of the material on one side substantially thicker than a second layer on another side of the substrate. The thinned layer is formed from an electrically insulating material but is configured such that the layer provides no significant electrical resistance to current passing through the layer.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant d'obtenir un substrat porteur de courant et de contrôler individuellement les caractéristiques du film d'un matériau formé simultanément sur les deux faces du substrat afin d'obtenir une première couche de matériau sur une face sensiblement plus épaisse qu'une seconde couche sur une autre face du substrat. La couche épaissie est formée à partir d'un matériau isolant électriquement mais est conçue de telle sorte que cette couche ne présente pas une importante résistance électrique au courant la traversant.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)