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1. (WO2010123624) CAPACITIVE GAGE PRESSURE SENSOR WITH VACUUM DIELECTRIC
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/123624    International Application No.:    PCT/US2010/025857
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 02.03.2010
IPC:
G01L 9/00 (2006.01)
Applicants: ROSEMOUNT, INC. [US/US]; 12001 Technology Drive Eden Prairie, MN 55344 (US) (For All Designated States Except US).
BRODEN, David, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BRODEN, David, A.; (US)
Agent: CHRISTENSON, Christopher, R.; Westman, Champlin & Kelly, P.A. 900 Second Avenue South Suite 1400 Minneapolis, MN 55402-3319 (US)
Priority Data:
12/428,968 23.04.2009 US
Title (EN) CAPACITIVE GAGE PRESSURE SENSOR WITH VACUUM DIELECTRIC
(FR) CAPTEUR CAPACITIF DE PRESSION MANOMÉTRIQUE AVEC DIÉLECTRIQUE SOUS VIDE
Abstract: front page image
(EN)A field device (100) includes a capacitive gauge pressure sensor configured to measure a gage pressure of a process media, A sensor body (110) of the pressure sensor includes first and second chambers (112, 113). The second chamber (113) is under vacuum and forms a vacuum dielectric for the pressure sensor. An atmospheric reference port (180) is formed in the sensor body (110) and maintains the first chamber (112) in equilibrium with ambient atmospheric pressure. A process media inlet port (125) of the sensor is configured to couple to a process media source (120). The sensor includes a conductive deflectable diaphragm (130) between the second chamber (113) and the media inlet port (125). A capacitive plate (140) is disposed in the second chamber (113) in relation to the diaphragm (130) such that deflection of the diaphragm (130) generates a change in capacitance. The field device (100) also includes sensor circuitry (185) which generates a sensor signal indicative of the gage pressure of the process media (12O)5 and transmitter circuitry (190) which transmits information relative to the sensor signal over a process communication loop (195).
(FR)L'invention porte sur un dispositif de champ (100) qui comprend un capteur capacitif de pression nanométrique configuré pour mesurer une pression nanométrique d'un milieu de traitement. Un corps de capteur (110) du capteur de pression comprend des première et seconde chambres (112, 113). La seconde chambre (113) est mise sous vide et forme un diélectrique sous vide pour le capteur de pression. L'orifice de référence atmosphérique (180) est formé dans le corps de capteur (110) et maintient la première chambre (112) à l'équilibre avec la pression atmosphérique ambiante. Un orifice d'entrée de milieu de traitement (125) du capteur est configuré pour se coupler à une source de milieu de traitement (120). Le capteur comprend une membrane flexible conductrice (130) entre la seconde chambre (113) et l'orifice d'entrée du milieu (125). Une plaque capacitive (140) est disposée dans la seconde chambre (113) en relation avec la membrane (130) de telle sorte qu'une déviation de la membrane (130) génère un changement de capacité. Le dispositif de champ (100) comprend également des éléments de circuit de capteur (185) qui génèrent un signal de capteur indicatif de la pression nanométrique du milieu de traitement (120) et des éléments de circuit d'émetteur (190) qui transmettent des informations concernant le signal de capteur sur une boucle de communication de traitement (195).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)