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Pub. No.:    WO/2010/123101    International Application No.:    PCT/JP2010/057242
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 23.04.2010
G03F 7/004 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 1-9-2, Higashi-Shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
FUJISAWA, Tomohisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUDA, Yasuhiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HAMA, Yukari [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAKAI, Kaori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWAKAMI, Takanori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIMURA, Yukio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAKAKIBARA, Hirokazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUMURA, Nobuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAGAWA, Hiroki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: FUJISAWA, Tomohisa; (JP).
MATSUDA, Yasuhiko; (JP).
HAMA, Yukari; (JP).
SAKAI, Kaori; (JP).
KAWAKAMI, Takanori; (JP).
SAKAKIBARA, Hirokazu; (JP).
MATSUMURA, Nobuji; (JP).
NAKAGAWA, Hiroki; (JP)
Agent: WATANABE, Kazuhira; 3rd Fl., No.8 Kikuboshi Tower Building, 20-18, Asakusabashi 3-chome, Taito-ku, Tokyo 1110053 (JP)
Priority Data:
2009-106437 24.04.2009 JP
2009-215636 17.09.2009 JP
(JA) 感放射線性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN)A radiation-sensitive resin composition which is a material for resists having excellent resolution, etc., the composition comprising (A) a compound represented by general formula (1): X+Z- (X+ is a cation represented by general formula (1-1) or (1-2), and Z- is an anion such as OH-), (B) a resin comprising repeating units represented by general formula (2) and repeating units represented by general formula (3), and (C) a radiation-sensitive acid generator. (In general formulae (1-1), (1-2), (2), and (3), R2 to R7 each is a hydrogen atom or the like; R8 is an alicyclic hydrocarbon group or the like; A is a single bond or the like; and R9 is a monovalent organic group.)
(FR)L'invention porte sur une composition de résine sensible au rayonnement qui est une matière pour résists ayant une excellentes résolution, etc., la composition comprenant (A) un composé représenté par la formule générale (1) : X+Z- (X+ est un cation représenté par la formule générale (1-1) ou (1-2), et Z- est anion tel que OH-), (B) une résine comprenant des unités répétitives représentées par la formule générale (2) et des unités répétitives représentées par la formule générale (3), et (C) un générateur d'acide sensible au rayonnement. (Dans les formules générales (1-1), (1-2), (2) et (3), R2 à R7 représentent chacun un atome d'hydrogène ou similaire ; R8 est un groupe hydrocarboné alicyclique ou similaire ; A est une simple liaison ou similaire ; et R9 est un groupe organique monovalent).
(JA) 解像性能などに優れたレジストの材料であり、(A)一般式(1)X+-で表される化合物(X+は一般式(1-1)、(1-2)で表されるカチオン、Z-はOH-などのアニオン)、(B)一般式(2)で表される繰り返し単位と一般式(3)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び(C)感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 (一般式(1-1)、(1-2)、(2)、(3)中、R~Rは水素原子等、Rは脂環式炭化水素基等、Aは単結合等、Rは1価の有機基である。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)