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1. (WO2010123098) COIL SPRING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/123098    International Application No.:    PCT/JP2010/057232
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 23.04.2010
IPC:
F16F 1/06 (2006.01), F16F 1/02 (2006.01), F16F 15/123 (2006.01)
Applicants: NHK SPRING CO., LTD. [JP/JP]; 10, Fukuura 3-chome, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2360004 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWANABE, Kenjiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
AMANO, Tanehira [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KATO, Nobuharu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOBAYASHI, Takao [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMADA, Hirotaka [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWANABE, Kenjiro; (JP).
AMANO, Tanehira; (JP).
KATO, Nobuharu; (JP).
KOBAYASHI, Takao; (JP).
YAMADA, Hirotaka; (JP)
Agent: SUENARI, Mikio; Asaco Kyobashi Building 3rd floor, 6-13, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2009-106959 24.04.2009 JP
Title (EN) COIL SPRING
(FR) RESSORT HÉLICOÏDAL
(JA) コイルスプリング
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a coil spring wherein the hysteresis loss due to the friction resistance with an object member can be reduced, and the resistance to the contacts between coiled wires can be improved. An arc spring (41) is disposed in a clutch unit (1). In order to reduce the hysteresis loss, a wear-resistant layer having a friction coefficient (µ) of less than 0.15 and a hardness of Hv1000 or more is formed on the surface of the arc spring (41). The wear-resistant layer is a MoS2 layer (molybdenum disulfide layer), an electroless NiP layer (electroless nickel-phosphorus layer), a DLC layer (diamond like carbon layer), or a TiN layer (titanium nitride layer). The wear resistance can be improved in the wear resistant layer excluding the MoS2 layer. Regarding, specifically, the DLC layer, it is preferable that the DLC layer is formed on the surface of the coil spring shown in FIG. 2 which requires a high wear resistance, because the hardness of the DLC layer is approximately Hv3000.
(FR)L'invention porte sur un ressort hélicoïdal, la perte par hystérésis résultant de la résistance de frottement avec un élément objet pouvant être réduite, et la résistance aux contacts entre les fils enroulés pouvant être améliorée. Un ressort en arc (41) est disposé dans une unité d'embrayage (1). Afin de réduire la perte par hystérésis, une couche résistante à l'usure, ayant un coefficient de frottement de moins de 0,15 et une dureté de Hv1000 ou plus, est formée sur la surface du ressort en arc (41). La couche résistante à l'usure est une couche de MoS2 (couche de bisulfure de molybdène), une couche de NiP déposée par réduction chimique (couche de nickel-phosphore déposée par réduction chimique) une couche de DLC (couche de carbone sous forme de diamant amorphe) ou une couche de TiN (couche de nitrure de titane). La résistance à l'usure peut être améliorée dans la couche résistante à l'usure en excluant la couche de MoS2. En ce qui concerne particulièrement la couche de DLC, il est préférable que la couche de DLC soit formée sur la surface du ressort hélicoïdal représenté sur la Figure 2, qui exige une haute résistance à l'usure, parce que la dureté de la couche de DLC est d'environ Hv3000.
(JA) 相手部材との摩擦抵抗によるヒステリシス損失の低減を図ることができ、線同士の接触に対する耐久性を向上させる。クラッチユニット1内にアークスプリング41が配置されている。ヒステリシス損失の低減を図るために、アークスプリング41の表面には、摩擦係数μが0.15未満、硬度がHv1000以上となる耐摩耗層を形成している。耐摩耗層は、MoS層(二硫化モリブデン層)、無電解NiP層(無電解ニッケルリン層)、DLC層(ダイヤモンドライクカーボン層)、あるいは、TiN層(窒化チタン層)である。MoS層を用いる場合以外には、耐摩耗性の向上も図ることができる。特に、DLC層の場合、その硬度はHv3000程度であるから、高耐摩耗性が要求される図2に示すコイルスプリング表面にDLC層を形成することは好適である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)