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Pub. No.: WO/2010/123005 International Application No.: PCT/JP2010/057015
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 20.04.2010
G03F 7/11 (2006.01)
Applicants: MIYAZAKI, Jun[JP/JP]; JP (UsOnly)
IGARASHI, Tsutomu[JP/JP]; JP (UsOnly)
YASUNAMI, Takashi[JP/JP]; JP (UsOnly)
Asahi Kasei E-materials Corporation[JP/JP]; 1-105, Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1018101, JP (AllExceptUS)
Inventors: MIYAZAKI, Jun; JP
Agent: AOKI, Atsushi; SEIWA PATENT & LAW, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1058423, JP
Priority Data:
(JA) 感光性樹脂積層体
Abstract: front page image
(EN) Disclosed is a photosensitive resin laminate which has high sensitivity, while being suppressed in sensitivity decrease (namely sensitivity change) due to the hold time, in other words, having good storage stability. Also disclosed is a method for forming a resist pattern, which comprises a step in which a photosensitive resin layer is formed using the photosensitive resin laminate on a substrate and the photosensitive resin layer is exposed and developed. Specifically, the photosensitive resin laminate contains at least a supporting film, a photosensitive resin layer that is composed of a photosensitive resin composition, and a protective film, and the protective film contains an antioxidant that has a structure represented by general formula (I) (wherein R1 and R2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-6 carbon atoms). The phenol equivalent of the antioxidant is not more than 3.1 × 10-3, and the antioxidant content in the protective film is more than 1 ppm but 3,000 ppm or less.
(FR) L'invention porte sur un stratifié de résine photosensible qui a une sensibilité élevée, tout en présentant une suppression de la diminution de sensibilité (à savoir changement de sensibilité) due au temps de conservation, en d'autres termes, ayant une bonne stabilité au stockage. L'invention porte également sur un procédé de formation d'un motif de résist, qui comprend une étape dans laquelle une couche de résine photosensible est formée à l'aide d'un stratifié de résine photosensible sur un substrat et la couche de résine photosensible est exposée et développée. De façon spécifique, le stratifié de résine photosensible contient au moins un film de support, une couche de résine photosensible qui est composée d'une composition de résine photosensible, et un film protecteur, et le film protecteur contient un anti-oxydant qui a une structure représentée par la formule générale (I) (dans laquelle R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1-6 atomes de carbone). L'équivalent phénol de l'anti-oxydant n'est pas supérieur à 3,1 × 10-3, et la teneur en anti-oxydant dans le film protecteur est de plus de 1 ppm mais de 3 000 ppm ou moins.
(JA)  本発明は、高感度で且つホールドタイムによる感度低下(すなわち感度変化)が少ない、すなわち保存安定性が良好な感光性樹脂積層体を提供することを目的とする。また本発明は、該感光性樹脂積層体を用いて、基板上に感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光及び現像することを含むレジストパターンの形成方法を提供することも目的とする。本発明は、支持体フィルムと、感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層と、保護フィルムとを少なくとも含む積層体であり、該保護フィルムが、下記一般式(I): (式中、R1及びR2は各々独立に水素又は炭素数1~6のアルキル基を示す。)で表される構造を含む酸化防止剤を含有し、該酸化防止剤のフェノール当量が3.1×10-3以下であり、該保護フィルム中の該酸化防止剤の含有量が、1ppmより多く3000ppm以下である、感光性樹脂積層体を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)