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Pub. No.:    WO/2010/122912    International Application No.:    PCT/JP2010/056460
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 09.04.2010
C09D 183/04 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), G02B 1/10 (2006.01), G02B 5/23 (2006.01)
Applicants: TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7458648 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKATSUKASA, Shunichiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MORI, Katsuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAKATSUKASA, Shunichiro; (JP).
MORI, Katsuhiro; (JP)
Agent: ONO, Hisazumi; Nippon Shuzo bldg., 1-21, Nishi-shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2009-102229 20.04.2009 JP
(JA) コーティング組成物
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a coating composition for forming a hard coat film that exhibits good adhesion to a plastic optical base by itself, while being effectively prevented from the formation of cracks or the like that could be caused by the thermal history during the curing period or the like. Specifically disclosed is a coating composition for forming a hard coat film, which contains, as essential ingredients, fine inorganic oxide particles, a hydrolyzable organosilicon compound, water, a curing catalyst and an organic solvent. The coating composition for forming a hard coat film is characterized in that a cyclic ketone is contained in an amount of 0.10-30.00 parts by mass per 100 parts by mass of the total of the fine inorganic oxide particles and the hydrolyzable organosilicon compound.
(FR)L'invention porte sur une composition de revêtement pour former un film de revêtement dur qui présente par lui-même une bonne adhérence à une base optique plastique, tout en ne pouvant pas effectivement former des fissures ou autres qui pourraient être provoquées par l'historique thermique pendant la période de durcissement ou autre. Plus particulièrement, l'invention porte sur une composition de revêtement pour former un film de revêtement dur qui contient, comme ingrédients essentiels, de fines particules d'oxyde inorganique, un composé organique du silicium hydrolysable, de l'eau, un catalyseur de durcissement et un solvant organique. La composition de revêtement pour former un film de revêtement dur est caractérisée par le fait qu'une cétone cyclique est contenue en une quantité de 0,10 à 30,00 parties en masse pour 100 parties en masse du total des fines particules d'oxyde inorganique et du composé organique du silicium hydrolysable.
(JA)【課題】それ自体でプラスチック製の光学基材に対する密着性が良好であり且つ硬化時等の熱履歴に起因するクラックの発生などが有効に防止されたハードコート膜を形成するためのコーティング組成物を提供する。 【解決手段】無機酸化物微粒子、加水分解性有機ケイ素化合物、水、硬化触媒及び有機溶媒を必須成分として含むハードコート膜形成用コーティング組成物において、前記無機酸化物微粒子と加水分解性有機ケイ素化合物との合計量100質量部当り、0.10乃至30.00質量部の量で環状ケトンを含有していることを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)