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1. (WO2010122829) NMR PROBE
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Pub. No.: WO/2010/122829 International Application No.: PCT/JP2010/051710
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 05.02.2010
G01R 33/32 (2006.01) ,G01R 33/34 (2006.01)
Applicants: TERAO Yasuaki; null (UsOnly)
MIKI Takashi; null (UsOnly)
KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO[JP/JP]; 10-26, Wakinohama-cho 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585, JP (AllExceptUS)
Inventors: TERAO Yasuaki; null
MIKI Takashi; null
Agent: OGURI Shohei; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Priority Data:
(JA) NMR用プローブ
Abstract: front page image
(EN) Disclosed is an NMR probe which enables saving of the labor and time to fabricate an RF coil for each sample chip and improvement of the uniformity of the high-frequency magnetic field. The NMR probe (1) is provided with a first substrate (2) having a first RF coil (7) fabricated by microfabrication, a second substrate (3) fixedly disposed in parallel to the first coil substrate (2) and having a second RF coil (8) fabricated by microfabrication, and a sample substrate (4) disposed between the first substrate (2) and the second substrate (3) and having a sample space (4a) fabricated by microfabrication. A deuterated solvent is applied to the surface of the sample substrate (4) or the inner side surfaces of the coil substrate (9) (the surfaces defining a plug-in space (9a)).
(FR) L'invention concerne une sonde à résonance magnétique nucléaire (RMN) permettant de faire des économies de temps et de main-d'oeuvre dans la fabrication d'une bobine RF pour chaque puce d'échantillon et d'améliorer l'uniformité du champ magnétique haute fréquence. Cette sonde RMN (1) comprend un premier substrat (2) pourvu d'une première bobine RF (7) obtenue par micro-fabrication, un deuxième substrat (3) disposé fixe et parallèle au premier substrat (2) et pourvu d'une deuxième bobine RF (8) obtenue par micro-fabrication, ainsi qu'un substrat d'échantillon (4) disposé entre le premier (2) et le deuxième substrat (3) et comportant un espace d'échantillon (4a) obtenu par micro-fabrication. Un solvant deutéré est appliqué sur la surface du substrat d'échantillon (4) ou sur les surfaces de côté interne du substrat de bobine (9) (les surfaces définissant un espace d'enfichage (9a)).
(JA)  本発明の目的は、試料チップ毎にRFコイルを作製する手間を省くことができるとともに、高周波磁場の均一性を従来よりも向上できるNMR用プローブを提供することである。本発明は、微細加工技術により形成された第1RFコイル7を有する第1基板2と、第1コイル基板2に対して並行に固定配置されるとともに微細加工技術により形成された第2RFコイル8を有する第2基板3と、第1基板2と第2基板3との間に配置されるとともに微細加工技術により形成された試料空間4aを有する試料基板4と、を備えるNMR用プローブ1である。試料基板4の表面またはコイル基板9の内側面(差し込み用スペース9aを区画形成する面)には、重水化溶媒液が塗布されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)