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1. (WO2010122788) MOVING-OBJECT APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/122788    International Application No.:    PCT/JP2010/002870
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 21.04.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWAMURA, Shuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HARA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWAMURA, Shuji; (JP).
HARA, Atsushi; (JP)
Agent: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Priority Data:
2009-102714 21.04.2009 JP
Title (EN) MOVING-OBJECT APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE DEPLACEMENT D'OBJET, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 移動体装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)In a substrate stage apparatus (PST), when a coarse X movement stage (23X) moves along the X-axis, a coarse Y movement stage (23Y), a weight-cancellation apparatus (60), and a Y-beam (70) move along the X-axis together with the coarse X movement stage. When the coarse Y movement stage moves on top of the coarse X movement stage along the Y-axis, the weight-cancellation apparatus moves on top of the Y-beam along the Y-axis together with the coarse Y movement stage. The Y-beam extends along the Y-axis through the entire Y-axis range of movement of the weight-cancellation apparatus, so the weight-cancellation apparatus, regardless of the position thereof, is always supported by the Y-beam. Consequently, a substrate (P) can be precisely guided along the X-Y plane even without the provision of a member (such as a surface plate) having a guide surface large enough to extend across the entire movement range of the weight-cancellation apparatus.
(FR)Selon l'invention, dans un appareil à étage de substrat (PST), lorsqu'un étage de mouvement X grossier (23X) se déplace le long de l'axe X, un étage de mouvement Y (23Y), un appareil de poids d'annulation (60), et un faisceau Y (70) se déplace le long de l'axe X ensemble avec l'étage de mouvement X grossier. Lorsque l'étage de mouvement Y grossier se déplace au sommet de l'étage de mouvement X grossier le long de l'axe Y, l'appareil de poids d'annulation se déplace au sommet du faisceau Y le long de l'axe Y ensemble avec l'étage de mouvement Y. Le faisceau Y s'étend le long de l'axe Y traversant toute la plage de l'axe Y du mouvement de l'appareil de poids d'annulation, ainsi, l'appareil de poids d'annulation, quelle que soit sa position, est toujours supporté par le faisceau Y. En conséquence, un substrat (P) peut être guidé avec précision le long du plan X-Y même sans la fourniture d'un élément (par exemple une plaque de surface) ayant une surface de guidage suffisamment grande pour s'étendre à travers toute la plage de mouvement de l'appareil de poids d'annulation.
(JA)【課題】 基板ステージ装置(PST)では、X粗動ステージ(23X)がX軸方向に移動する際には、Y粗動ステージ(23Y),自重キャンセル装置(60)、及びYビーム(70)がX粗動ステージと一体的にX軸方向に移動し、Y粗動ステージがX粗動ステージ上でY軸方向に移動する際には、自重キャンセル装置は、Yビーム上でY粗動ステージと一体的にY軸方向移動する。Yビームは、自重キャンセル装置のY軸方向に関する移動範囲をカバーした状態でY軸方向に延設されているので、自重キャンセル装置は、その位置に関わらず、常にYビームに支持される。従って、自重キャンセル装置の全移動範囲をカバーできるだけの広さのガイド面を有する部材(例えば定盤など)を設けなくても、基板(P)を精度よくXY平面に沿って案内できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)