WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010122166) METHOD FOR DRYING RICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/122166    International Application No.:    PCT/EP2010/055539
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 26.04.2010
IPC:
A23B 9/08 (2006.01), A23L 1/01 (2006.01), A23L 1/182 (2006.01), F26B 3/08 (2006.01), F26B 25/22 (2006.01)
Applicants: BÜHLER AG [CH/CH]; Gupfenstrasse 5 CH-9240 Uzwil (CH) (For All Designated States Except US).
ZAMPROGNA, Eliana [IT/CH]; (CH) (For US Only)
Inventors: ZAMPROGNA, Eliana; (CH)
Agent: HEPP, Dieter; Friedtalweg 5 CH-9500 Wil (CH)
Priority Data:
657/09 24.04.2009 CH
61/172,306 24.04.2009 US
Title (DE) VERFAHREN ZUM TROCKNEN VON REIS
(EN) METHOD FOR DRYING RICE
(FR) PROCÉDÉ DE SÉCHAGE DU RIZ
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Trocknen von Reis, bei welchem die Reiskörner während des Trocknungsvorgangs Zustände an der Oberfläche durchlaufen, die verschiedene Wertepaare aus Temperatur (T) der Oberfläche und Feuchtigkeit (U) der Oberfläche aufweisen, und wobei die Oberfläche der Reiskörner während des Trocknungsvorgangs in einem viskoelastischen Zustand bleibt, bei welchem in einem Diagramm aus Temperatur (T) der Oberfläche der Reiskörner und Feuchtigkeit (U) der Oberfläche a) die Temperatur (Tv) der Oberfläche der Reiskörner nicht mehr als 40°C über der Temperatur (Tg) auf der Glasübergangskurve des Reises im Punkt gleicher Feuchtigkeit der Oberfläche liegt, und/oder b) die Feuchtigkeit (Uv) der Oberfläche der Reiskörner nicht mehr als 20% über der Feuchtigkeit auf der Glasübergangskurve des Reises im Punkt gleicher Temperatur der Oberfläche liegt.
(EN)The invention relates to a method for drying rice, in which, during the drying process, the grains of rice pass through surface states which have various pairs of values of temperature (T) of the surface and moisture (U) of the surface, the surface of the grains of rice remaining in a viscoelastic state during the drying process, and in which, in a diagram comprising temperature (T) of the surface of the grains of rice and moisture (U) of the surface, a) the temperature (Tv) of the surface of the grains of rice lies no more than 40°C above the temperature (Tg) on the glass transition curve of the rice at the point of the same moisture of the surface and/or b) the moisture (Uv) of the surface of the grains of rice lies no more than 20% above the moisture on the glass transition curve of the rice at the point of the same temperature of the surface.
(FR)La présente invention concerne un procédé de séchage du riz pendant lequel, d'une part les grains de riz présentent des états de leur surface qui correspondent à diverses associations de valeurs entre la température superficielle (T) et l'humidité superficielle (U), et d'autre part la surface des grains de riz conserve un état viscoélastique. Ce procédé respecte une courbe de la température superficielle (T) des grains de riz rapportée à l'humidité superficielle (U) où a) la température superficielle (Tv) des grains de riz n'excède pas de plus de 40°C la température (Tg) dans la courbe de transition vitreuse du riz au point d'égalité d'humidité de la surface, et/ou, b) l'humidité superficielle (Uv) des grains de riz n'excède pas de plus de 20% l'humidité dans la courbe de transition vitreuse du riz au point d'égalité de la température superficielle.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)