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1. (WO2010121652) MASTERING METHOD, MASTERING DEVICE AND SUBSTRATE MASTER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/121652    International Application No.:    PCT/EP2009/054759
Publication Date: 28.10.2010 International Filing Date: 21.04.2009
IPC:
G11B 7/26 (2006.01), G11B 7/245 (2006.01), G11B 23/00 (2006.01)
Applicants: M2 ENGINEERING AB [SE/SE]; Domnarvsgatan 4 Lunda S-163 53 Spanga (SE) (For All Designated States Except US).
NESSAETHER, Johan [SE/SE]; (SE) (For US Only)
Inventors: NESSAETHER, Johan; (SE)
Agent: REININGER, Jan; Schumannstraße 2 10117 Berlin (DE)
Priority Data:
Title (EN) MASTERING METHOD, MASTERING DEVICE AND SUBSTRATE MASTER
(FR) PROCÉDÉ DE MATRIÇAGE, DISPOSITIF DE MATRIÇAGE ET SUBSTRAT MAÎTRE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a mastering method for producing a substrate master, a mastering device for producing a substrate master and a substrate master, in particular for use in an optical storage media replication process, the mastering method comprising the following steps: providing a substrate (1) with a substantially planar surface (11); coating the planar surface (11) of the substrate (1) with a patterning layer (3); and patterning the patterning layer (3) by exposing the patterning layer to a patterning radiation (5) at one or more writing spots (33) along an exposure path (31), such that a thickness modulation or a continuous change of thickness is induced in the patterning layer (3) along the exposed exposure path (31).
(FR)L'invention porte sur un procédé de matriçage pour fabriquer un substrat maître, sur un dispositif de matriçage pour fabriquer un substrat maître et sur un substrat maître, en particulier pour une utilisation dans un procédé de réplication de support de stockage optique, le procédé de matriçage comportant les étapes suivantes, consistant : à se procurer un substrat (1) avec une surface sensiblement plane (11) ; à déposer sur la surface plane (11) du substrat (1) une couche de formation de motif (3) ; et à former un motif sur la couche de formation de motif (3) par exposition de la couche de formation de motif à un rayonnement de formation de motif (5), au niveau d'un ou plusieurs points d'écriture (33) le long d'un trajet d'exposition (31), de telle sorte qu'une modulation d'épaisseur ou un changement continu d'épaisseur est induit dans la couche de formation de motif (3) le long du trajet d'exposition exposé (31).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)