WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010119890) METHOD FOR PRODUCING TETRAHYDROPYRAN COMPOUND AND INTERMEDIATE THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/119890    International Application No.:    PCT/JP2010/056670
Publication Date: 21.10.2010 International Filing Date: 14.04.2010
IPC:
C07D 493/04 (2006.01), C07D 317/20 (2006.01)
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP) (For All Designated States Except US).
KAWANAMI Hirotaka [JP/JP]; (JP) (For US Only).
UEDA Kana [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MURASE Shota [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAWANAMI Hirotaka; (JP).
UEDA Kana; (JP).
MURASE Shota; (JP)
Agent: KOJIMA Takashi; GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Priority Data:
2009-097773 14.04.2009 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING TETRAHYDROPYRAN COMPOUND AND INTERMEDIATE THEREOF
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ TÉTRAHYDROPYRANE ET D'UN INTERMÉDIAIRE DE CELUI-CI
(JA) テトラヒドロピラン化合物の製造方法およびその中間体
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a tetrahydropyran compound represented by general formula (5) shown in the scheme. Accordingly, a tetrahydropyran derivative is obtained in high yield and with high selectivity without using a highly toxic reagent, and an industrially useful method for producing a tetrahydropyran derivative and an intermediate thereof can be provided. In formulae (1) to (5), R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, a linear, branched, or cyclic alkyl group, or an aromatic group which may have a substituent, and R1 and R2 may be combined to form an alkylene group, thereby forming a ring; and R3 and R4 each independently represent a hydrogen atom or a linear, branched, or cyclic alkyl group, and R3 and R4 may be combined to form an alkylene group, thereby forming a ring.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un composé tétrahydropyrane représenté par la formule générale (5) présentée dans le schéma. En conséquence, un dérivé de tétrahydropyrane est obtenu dans un rendement élevé et avec une sélectivité élevée sans utiliser de réactif hautement toxique, et un procédé industriellement utile de fabrication d'un dérivé tétrahydropyrane et d'un intermédiaire de celui-ci peut être proposé. Dans les formules (1) à (5), R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique ou un groupe aromatique qui peut avoir un substituant, et R1 et R2 peuvent être combinés pour former un groupe alkylène, permettant ainsi de former un cycle; et R3 et R4 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique, et R3 et R4 peuvent être combinés pour former un groupe alkylène, permettant ainsi de former un cycle.
(JA) 下記スキームで表される一般式(5)で表されるテトラヒドロピラン化合物の製造方法。これにより、毒性の高い試薬を用いることなく、高収率かつ高選択性でテトラヒドロピラン誘導体が得られ、工業的に有用なテトラヒドロピラン誘導体の製造方法およびその中間体を提供できる。(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子、直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、または置換基を有してもよい芳香族基を表し、R1およびR2が結合してアルキレン基を形成することにより環を形成していてもよく、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、または直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を表し、R3およびR4が結合してアルキレン基を形成することにより環を形成していてもよい。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)