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1. (WO2010118206) PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF CONTAMINATING MATERIAL FROM SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/118206    International Application No.:    PCT/US2010/030349
Publication Date: 14.10.2010 International Filing Date: 08.04.2010
IPC:
C11D 7/32 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01)
Applicants: SUNSONIX [US/US]; 859 Pheland Court Milpitas, CA 95035 (US) (For All Designated States Except US).
TREICHEL, Helmuth [US/US]; (US) (For US Only).
BOHLING, Dave [US/US]; (US) (For US Only).
FARBER, Jeff [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: TREICHEL, Helmuth; (US).
BOHLING, Dave; (US).
FARBER, Jeff; (US)
Agent: GOLDSTEIN, Avery, N.; Gifford, Krass, Sprinkle, Anderson & Citkowski, P.C. 2701 Troy Center Drive, Suite 330 Post Office Box 7021 Troy, MI 48007-7021 (US)
Priority Data:
61/167,641 08.04.2009 US
61/248,620 05.10.2009 US
Title (EN) PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVAL OF CONTAMINATING MATERIAL FROM SUBSTRATES
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DESTINÉS À ÉLIMINER DES SUBSTANCES CONTAMINANTES À PARTIR DE SUBSTRATS
Abstract: front page image
(EN)A process for removing contaminating metals from a substrate to improve electrical performance is provided. Polycationic metals are known to be particularly detrimental to the electrical properties of an insulator or semiconductor substrate. The process includes the exposure of the substrate to an aqueous solution of at least one compound of the formula: (I) where n in each occurrence is independently an integer value between 0 and 6, and X is independently in each occurrence H, NR4, Li, Na or K and at least one of X is NR4; where R in each occurrence is independently H or C1-C6 alkyl, to improve electrical performance of the substrate. A kit for preparing such a solution includes a 1-20 total weight percent aqueous concentrate of at least one compound of formula (I). The kit also provides instructions for the dilution of the concentrate to form the solution.
(FR)La présente invention concerne un procédé destiné à éliminer des métaux contaminants à partir d'un substrat afin d'améliorer la performance électrique. Les métaux polycationiques sont connus pour être particulièrement préjudiciables pour les propriétés électriques d'un substrat isolant ou semi-conducteur. Le procédé comprend l'exposition du substrat à une solution aqueuse constituée d'au moins un composé de formule : (I) dans laquelle n représente indépendamment dans chaque occurrence une valeur entière entre 0 et 6, et X représente indépendamment dans chaque occurrence H, NR4, Li, Na ou K et au moins un X représente NR4 ; où R représente indépendamment dans chaque occurrence H ou un alkyle en C1 à C6, afin d'améliorer la performance électrique du substrat. L'invention concerne également un kit de préparation d'une telle solution comprenant un concentré aqueux d'au moins un composé de formule (I) avec un pourcentage en poids total allant de 1 à 20 %. Le kit comprend également des instructions pour la dilution du concentré afin de former la solution.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)