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1. (WO2010117971) GROUNDED CONFINEMENT RING HAVING LARGE SURFACE AREA
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/117971    International Application No.:    PCT/US2010/030021
Publication Date: 14.10.2010 International Filing Date: 06.04.2010
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, CA 94538 (US) (For All Designated States Except US).
MARAKHTANOV, Alexei [RU/US]; (US) (For US Only).
DHINDSA, Rajinder [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MARAKHTANOV, Alexei; (US).
DHINDSA, Rajinder; (US)
Agent: LU, Yan; Sync Technology Law Group USST National Science Park Suites D314-316, Bldg 1# 128 Xiangyin Road Shanghai 200433 (CN)
Priority Data:
61/166,980 06.04.2009 US
12/570,359 30.09.2009 US
Title (EN) GROUNDED CONFINEMENT RING HAVING LARGE SURFACE AREA
(FR) ANNEAU DE CONFINEMENT MIS À LA TERRE À GRANDE SURFACE
Abstract: front page image
(EN)A wafer processing system is provided for use with a driver and a material supply source. The driver is operable to generate a driving signal. The material supply source is operable to provide a material. The wafer processing system includes an upper confinement chamber portion, a lower confinement chamber portion, a confinement ring, and an electro-static chuck. The upper confinement chamber portion has an upper confinement chamber portion inner surface. The lower confinement chamber portion is detachably disposed in contact with the upper confinement chamber portion. The lower confinement chamber portion has a lower confinement chamber portion inner surface. The confinement ring is removably disposed in contact with the upper confinement chamber portion inner surface and the lower confinement chamber portion inner surface. The confinement ring has a confinement ring inner surface. The electro-static chuck has an electro-static chuck upper surface and is arranged to receive the driving signal. The upper confinement chamber portion, the lower confinement chamber portion, the confinement ring and the electro-static chuck are arranged such that the upper confinement chamber portion inner surface, the lower confinement chamber portion inner surface, the confinement ring inner surface and the electro-static chuck upper surface surround a plasma-forming space that is capable of receiving the material. The upper confinement chamber portion, the lower confinement chamber portion, the confinement ring and the electro-static chuck are operable to transform the material into a plasma when the electro-static chuck receives the driving signal. The confinement ring has a non-rectangular cross section.
(FR)L'invention concerne un système de traitement de plaquette à utiliser avec un circuit d'excitation et une source d'alimentation en matière. Le circuit d'excitation est conçu pour générer un signal d'excitation. La source d'alimentation en matière est conçue pour fournir une matière. Le système de traitement de plaquette comprend une partie chambre de confinement supérieure, une partie chambre de confinement inférieure, un anneau de confinement, et un support de plaquette électrostatique. La partie chambre de confinement supérieure comprend une surface intérieure. La partie chambre de confinement inférieure est montée amovible en contact avec la partie chambre de confinement supérieure. La partie chambre de confinement inférieure comprend une surface intérieure. L'anneau de confinement est monté amovible en contact avec la surface intérieure de la partie chambre de confinement supérieure et la surface intérieure de la partie chambre de confinement inférieure. L'anneau de confinement comprend une surface intérieure. Le support de plaquette électrostatique comprend une surface supérieure et est conçu pour recevoir le signal d'excitation. La partie chambre de confinement supérieure, la partie chambre de confinement inférieure, l'anneau de confinement et le support de plaquette électrostatique sont montés de sorte que la surface intérieure de la partie chambre de confinement supérieure, la surface intérieure de la partie chambre de confinement inférieure, la surface intérieure de l'anneau de confinement et la surface supérieure du support de plaquette électrostatique entourent un espace de formation de plasma qui peut recevoir la matière. La partie chambre de confinement supérieure, la partie chambre de confinement inférieure, l'anneau de confinement et le support de plaquette électrostatique sont conçus pour transformer la matière en plasma lorsque le support de plaquette électrostatique reçoit le signal d'excitation. L'anneau de confinement présente une section transversale non rectangulaire.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)