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1. (WO2010117858) SYSTEM, METHOD AND APPARATUS FOR DROPLET CATCHER FOR PREVENTION OF BACKSPLASH IN A EUV GENERATION CHAMBER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/117858    International Application No.:    PCT/US2010/029436
Publication Date: 14.10.2010 International Filing Date: 31.03.2010
IPC:
G01J 3/10 (2006.01)
Applicants: CYMER, INC. [US/US]; 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127 (US) (For All Designated States Except US).
VASCHENKO, Georgiy, O. [RU/US]; (US) (For US Only).
PARTLO, William, N. [US/US]; (US) (For US Only).
FOMENKOV, Igor, V. [US/US]; (US) (For US Only).
SANDSTROM, Richard, L. [US/US]; (US) (For US Only).
ERSHOV, Alexander, I. [US/US]; (US) (For US Only).
BRANDT, David, C. [US/US]; (US) (For US Only).
MILLER, Joshua, J. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: VASCHENKO, Georgiy, O.; (US).
PARTLO, William, N.; (US).
FOMENKOV, Igor, V.; (US).
SANDSTROM, Richard, L.; (US).
ERSHOV, Alexander, I.; (US).
BRANDT, David, C.; (US).
MILLER, Joshua, J.; (US)
Agent: HILLMAN, Matthew, K.; Cymer, Inc. Legal Dept., MS/4-2D 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413 (US)
Priority Data:
12/720,190 09.03.2010 US
61/168,033 09.04.2009 US
61/168,000 09.04.2009 US
61/168,012 09.04.2009 US
Title (EN) SYSTEM, METHOD AND APPARATUS FOR DROPLET CATCHER FOR PREVENTION OF BACKSPLASH IN A EUV GENERATION CHAMBER
(FR) SYSTÈME, PROCÉDÉ ET APPAREIL DESTINÉS À UN DISPOSITIF DE COLLECTE DE GOUTTELETTES POUR LA PRÉVENTION DU RENVOI D'ÉCLABOUSSURES DANS UNE CHAMBRE GÉNÉRATRICE D'UVE
Abstract: front page image
(EN)A system and method generating an extreme ultraviolet light in an extreme ultraviolet light chamber including a collector mirror, a droplet generation system having a droplet outlet aligned to output a plurality of droplets along a target material path and a first catch including a first open end substantially aligned to the target material path and at least one internal surface oriented toward a second end of the first catch, the second end being opposite from the first open end.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé produisant un rayonnement ultraviolet extrême dans une chambre à rayonnement ultraviolet extrême comprenant un miroir collecteur, un système générateur de gouttelettes ayant un orifice de sortie de gouttelettes aligné de façon à produire une pluralité de gouttelettes suivant le trajet d'un matériau cible et un premier dispositif de collecte comprenant une première extrémité ouverte sensiblement alignée suivant le trajet du matériau cible et au moins une surface interne orientée vers une seconde extrémité du premier élément de collecte, la seconde extrémité étant opposée à la première extrémité.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)