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1. (WO2010116594) PHOTORESIST MATERIAL, PHOTORESIST FILM, ETCHING METHOD USING SAME, AND NOVEL AZO DYE COMPOUND
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/116594    International Application No.:    PCT/JP2010/001329
Publication Date: 14.10.2010 International Filing Date: 26.02.2010
IPC:
C09B 69/04 (2006.01), C07D 231/38 (2006.01), C07D 403/14 (2006.01), C07D 417/12 (2006.01), C07D 487/04 (2006.01), C09B 29/46 (2006.01), C09B 29/48 (2006.01), C09B 29/50 (2006.01), C09B 33/13 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/36 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (For All Designated States Except US).
KANAZAWA, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (For US Only).
WATANABE, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
USAMI, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KANAZAWA, Yoshinori; (JP).
WATANABE, Tetsuya; (JP).
USAMI, Yoshihisa; (JP)
Agent: SIKs & Co.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2009-082277 30.03.2009 JP
2010-036758 23.02.2010 JP
Title (EN) PHOTORESIST MATERIAL, PHOTORESIST FILM, ETCHING METHOD USING SAME, AND NOVEL AZO DYE COMPOUND
(FR) MATIÈRE DE PHOTORÉSIST, FILM DE PHOTORÉSIST, PROCÉDÉ D'ATTAQUE L'UTILISANT ET NOUVEAU COMPOSÉ COLORANT AZOÏQUE
(JA) フォトレジスト材料およびフォトレジスト膜、これを用いるエッチング方法、ならびに新規アゾ色素化合物
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a photoresist material which contains a photoresist compound represented by general formula (1). (In general formula (1), Ap- represents a p-valent azo dye anion; p represents an integer within the range of 1-5; Xq+ represents a q-valent cation; q represents an integer within the range of 1-5; and k' represents the number of Xq+ required for neutralizing the electrical charge of each molecule as a whole. In this connection, the azo dye represented by general formula (1) contains no metal ions in each molecule. General formula (1): Ap-·(Xq+)k'
(FR)L'invention porte sur une matière de photorésist qui contient un composé photorésist représenté par la formule générale (1). (Dans la formule générale (1), Ap- représente un anion de colorant azoïque de valence p ; p représente un entier se situant dans la plage de 1-5 ; Xq+ représente un cation de valence q ; q représente un entier se situant dans la plage de 1-5 ; et k' représente le nombre de Xq+ requis pour neutraliser la charge électrique de chaque molécule dans son ensemble. A cet égard, le colorant azoïque représenté par la formule générale (1) ne contient pas d'ions métalliques dans chaque molécule. Formule générale (1) : Ap-·(Xq+)k'
(JA) 本発明は、下記一般式(1)で表されるフォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト材料に関する。 [一般式(1)中、Ap-は、p価のアゾ色素アニオンを表し、pは1~5の範囲の整数を表し、Xq+は、q価のカチオンを表し、qは1~5の範囲の整数を表し、k'は分子全体の電荷を中和するために必要なXq+の数を表し、但し、一般式(1)で表されるアゾ色素は分子内に金属イオンを含有しない。]一般式(1)Ap-・(Xq+k'
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)