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1. (WO2010115500) IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/115500    International Application No.:    PCT/EP2010/001512
Publication Date: 14.10.2010 International Filing Date: 11.03.2010
IPC:
G02B 17/06 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
MANN, Hans-Jürgen [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ZELLNER, Johannes [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DODOC, Aurelian [RO/DE]; (DE) (For US Only).
ZAHLTEN, Claus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MENKE, Christoph [DE/DE]; (DE) (For US Only).
PRETORIUS, Marco [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ULRICH, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ROSTALSKI, Hans-Jürgen [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: MANN, Hans-Jürgen; (DE).
ZELLNER, Johannes; (DE).
DODOC, Aurelian; (DE).
ZAHLTEN, Claus; (DE).
MENKE, Christoph; (DE).
PRETORIUS, Marco; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE).
ROSTALSKI, Hans-Jürgen; (DE)
Agent: HOFMANN, Matthias; Rau, Schneck & Hübner Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Priority Data:
61/164,520 30.03.2009 US
Title (EN) IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE
(FR) OPTIQUE D'IMAGERIE ET INSTALLATION D'EXPOSITION DE PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE COMPORTANT UNE OPTIQUE D'IMAGERIE DE CE TYPE
Abstract: front page image
(EN)An imaging optics (36) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A first mirror (M1) is arranged in the imaging beam path of imaging light after the object field (4) and a last mirror (M6) is arranged in the imaging beam path before the image field (8). In the unfolded imaging beam path, an impingement point of a chief ray (16), which belongs to a central object field point, on a useful face (23) of each of the mirrors (M1 to M6), which is configured to guide the imaging light (3), has a mirror spacing (ZM) from the image plane (9). The mirror spacing (ZM1) of the first mirror (Ml) is greater than the mirror spacing (ZM6) of the last mirror (M6). The mirror spacing (zM3) of a fourth to last mirror (M3) is greater than the mirror spacing (zM1) of the first mirror (M1). In a further aspect of the invention, a reflection surface of at least one of the mirrors (M1 to M6) of the imaging optics (36) is configured as a static free form surface which cannot be described by a rotationally symmetrical function. This differs from an aspherical surface best adapted thereto, which can be described by a rotationally symmetrical function in that a normal (FNB) to a free form surface element (20) of a used region (23) of the free form surface, which is configured to guide the imaging light (3), adopts an angle (α) of a maximum of 70 μrad with a normal (FN) to a corresponding asphere surface element (22) of the aspherical surface (21). With the two aspects, a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throuhput for the imaging light results.
(FR)La présente invention concerne une optique d'imagerie (36) comportant une pluralité de miroirs (M1 à M6), imageant un champ objet (4) dans un plan objet (5) dans un champ image (8) dans un plan image (9). Un premier miroir (M1) est agencé dans le trajet de faisceau d'imagerie de lumière d'imagerie après le champ objet (4), et un dernier miroir (M6) est agencé dans le trajet de faisceau d'imagerie avant le champ image (8). Dans le trajet de rayon d'imagerie déployé, un point d'impact d'un rayon maître (16), appartenant à un point de champ objet central, sur une face utile (23) de chacun des miroirs (M1 à M6), configurée pour guider la lumière d'imagerie (3), présente un espacement de miroir (ZM) par rapport au plan image (9). L'espacement de miroir (ZM1) du premier miroir (M1) est supérieur à l'espacement de miroir (ZM6) du dernier miroir (M6). L'espacement de miroir (ZM3) d'un quatrième par rapport au dernier miroir (M3) est supérieur à l'espacement de miroir (ZM1) du premier miroir (M1). Selon un aspect supplémentaire de l'invention, une surface de réflexion d'au moins un des miroirs (M1 à M6) de l'optique d'imagerie (36) est configurée en tant que surface à forme libre statique, qui ne peut pas être décrite par une fonction rotationnellement symétrique. Cela diffère d'une surface asphérique, mieux adaptée, qui peut être décrite par une fonction rotationnellement symétrique, du fait qu'une normale (FNB) à un élément de surface à forme libre (20) d'une zone utilisée (23) de la surface à forme libre, configurée pour guider la lumière d'imagerie (3), adopte un angle (α) de 70 μrad maximum avec une normale (FN) à un élément de surface asphérique (22) correspondant de la surface asphérique (21). Avec ces deux aspects, on peut obtenir une combinaison manipulable de petites erreurs d'imagerie, une production gérable, et un bon débit de lumière d'imagerie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)