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1. (WO2010114274) APPARATUS FOR DEPOSITING FILM AND METHOD FOR DEPOSITING FILM AND SYSTEM FOR DEPOSITING FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/114274    International Application No.:    PCT/KR2010/001919
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 30.03.2010
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/12 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: SNU PRECISION CO., LTD [KR/KR]; 1629-2 Bongcheon 7-dong, Gwanak-gu Seoul 151-050 (KR) (For All Designated States Except US).
BAE, Kyung Bin [KR/KR]; (KR) (For US Only).
YOON, Hyung Seok [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KANG, Chang Ho [KR/KR]; (KR) (For US Only).
KWON, Hyun Goo [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: BAE, Kyung Bin; (KR).
YOON, Hyung Seok; (KR).
KANG, Chang Ho; (KR).
KWON, Hyun Goo; (KR)
Agent: NAM, Seung-Hee; 12F, Seo-jeon Bldg., 1330-9 Seocho-Dong, Seocho-Gu Seoul 137-858 (KR)
Priority Data:
10-2009-0027351 31.03.2009 KR
Title (EN) APPARATUS FOR DEPOSITING FILM AND METHOD FOR DEPOSITING FILM AND SYSTEM FOR DEPOSITING FILM
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT DE FILM ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM ET SYSTÈME DE DÉPÔT DE FILM
Abstract: front page image
(EN)Provided are an apparatus for depositing a film, including: a chamber configured to provide a reaction space; first and second substrate holders spaced apart from each other and installed in the chamber; and a deposition source which is installed between the first and second substrate holders and configured to sequentially supply a deposition raw materials in directions of the first and second substrate holders, a method for depositing a film suitable for the apparatus, and a system for depositing a film including the apparatus. According to the present disclosure, since sequential film processes can be performed with respect to two or more process lines provided in each of the process chambers through the single deposition source provided in each of the process chambers, fabrication costs can be saved and at the same time productivity can be enhanced.
(FR)L'invention porte sur un appareil de dépôt d'un film comprenant : une chambre configurée pour fournir un espace de réaction ; des premier et second supports de substrat espacés l'un de l'autre et installés dans la chambre ; et une source de dépôt qui est installée entre les premier et seconde supports de substrat et configurée pour fournir de façon séquentielle des matières premières de dépôt dans les directions des premier et second supports de substrat, sur un procédé de dépôt d'un film approprié pour l'appareil, et sur un système pour le dépôt d'un film comprenant l'appareil. Selon la présente invention, étant donné que des procédés séquentiels de dépôt de films peuvent être effectués en ce qui concerne deux lignes de traitement ou plus disposées dans chacune des chambres de traitement par la source de dépôt unique disposée dans chacune des chambres de traitement, on peut faire des économies sur les coûts de fabrication et en même temps la productivité peut être augmentée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)