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1. (WO2010113985) INTERFEROMETER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/113985    International Application No.:    PCT/JP2010/055771
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 30.03.2010
Chapter 2 Demand Filed:    28.01.2011    
G01B 9/02 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G01B 11/24 (2006.01)
Applicants: National University Corporation Nagaoka University of Tchnology [JP/JP]; 1603-1, Kamitomioka-cho, Nagaoka-shi, Niigata 9402188 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIODA Tatsutoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIODA Tatsutoshi; (JP)
Agent: KUBOTA Chikashi; 1710, White Tower Hamamatsucho 13-2, Hamamatsucho 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050013 (JP)
Priority Data:
2009-080747 30.03.2009 JP
(JA) 干渉計
Abstract: front page image
(EN)An interferometer comprises an interference profile measuring instrument which generates light having of which the phase has changed in accordance with the depth of a stage by reflecting the light from a light source emitting broadband light while changing the reflection distance in stages, receives the combined light configured from the light reflected from an object to be measured which is obtained by irradiating the object with the broadband light and the comb light generated from an optical path length modulator, and measures the interference profile. Since the interferometer (1) has no movable scanning mechanism and does not require calculation of Fourier transform, or the like, the interference profile can be measured in a short time and a cross-sectional image, a one-dimensional section in the depth direction or a two-dimensional section in the depth direction can be measured.
(FR)L'invention porte sur un interféromètre, qui comprend un instrument de mesure du profil d'interférence, lequel produit une lumière dont la phase a été modifiée en fonction de la profondeur d'une platine par réflexion de la lumière provenant d'une source de lumière émettant une lumière à large bande, tout en modifiant la distance de réflexion dans les platines, reçoit la lumière combinée, configurée à partir de la lumière réfléchie par un objet à mesurer, que l'on obtient par irradiation de l'objet par la lumière à large bande et la lumière d'un peigne, produite par un modulateur de longueur de chemin optique, et mesure le profil d'interférence. Comme l'interféromètre (1) n'a pas de mécanisme de balayage mobile et n'exige pas le calcul de la transformée de Fourier ou analogue, il est possible de mesurer le profil d'interférence en peu de temps, et on peut mesurer une image en coupe transversale, une coupe monodimensionnelle dans le sens de la profondeur, ou une coupe bidimensionnelle dans le sens de la profondeur.
(JA) 広帯域光を出射する光源からの光を、反射距離をステップ状に変化させて反射することで、前記ステップの深さに応じて位相が変化した光を生成し、広帯域光を測定対象に照射することで得られる当該測定対象からの反射光と、光路長変調器により生成されたコム光との合波光を受光し、干渉プロファイルを測定する干渉プロファイル測定器とを備える。干渉計1では、可動走査機構を持たずかつフーリエ変換等の演算が不要なので短時間の測定ができるし、断層像の測定や、深さ方向の一次元断層、あるいは深さ方向の二次元断層の測定も可能となる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)