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1. (WO2010113863) DEVICE FOR SUPPLYING WATER CONTAINING DISSOLVED GAS AND PROCESS FOR PRODUCING WATER CONTAINING DISSOLVED GAS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2010/113863 International Application No.: PCT/JP2010/055551
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 29.03.2010
IPC:
B01F 1/00 (2006.01) ,B01F 5/06 (2006.01) ,B08B 3/08 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: TOKOSHIMA, Hiroto[JP/JP]; JP (UsOnly)
SEO, Keita[JP/JP]; JP (UsOnly)
KURITA WATER INDUSTRIES LTD.[JP/JP]; 4-7, Nishishinjuku 3-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1608383, JP (AllExceptUS)
Inventors: TOKOSHIMA, Hiroto; JP
SEO, Keita; JP
Agent: SHIGENO, Tsuyoshi; Nissin bldg., 9F, 5-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Priority Data:
2009-08634331.03.2009JP
Title (EN) DEVICE FOR SUPPLYING WATER CONTAINING DISSOLVED GAS AND PROCESS FOR PRODUCING WATER CONTAINING DISSOLVED GAS
(FR) DISPOSITIF DE FOURNITURE D'EAU CONTENANT UN GAZ DISSOUS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'EAU CONTENANT UN GAZ DISSOUS
(JA) ガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法
Abstract: front page image
(EN) A device for supplying water containing a dissolved gas and a process for producing water containing a dissolved gas are provided with which it is possible to stably supply dissolved-gas-containing water having a low dissolved-gas concentration (low degree of saturation). Oxygen gas is supplied through gas feed piping (31) to a gas-phase chamber (13), and a vacuum pump (35) is operated simultaneously therewith to evacuate the gas-phase chamber (13). Raw water is supplied through raw-water piping (21) to a liquid-phase chamber (12). Some of the oxygen within the gas-phase chamber (13) permeates a gas-permeable film (11) and dissolves in the raw water within the liquid-phase chamber (12). Thus, water containing a dissolved gas is produced. The remainder of the oxygen within the gas-phase chamber (13) is sucked with the vacuum pump (35) together with condensed water and discharged through discharge piping (33). The dissolved-oxygen concentration of the water containing a dissolved gas is measured with a dissolved-gas meter (23), and the degree of opening of a gas flow control valve (32) is regulated so that the measured concentration becomes a desired value.
(FR) L'invention porte sur un dispositif de fourniture d'eau contenant un gaz dissous et sur un procédé de production d'eau contenant un gaz dissous, avec lesquels il est possible de fournir de façon stable de l'eau contenant un gaz dissous, ayant une faible concentration en gaz dissous (faible degré de saturation). De l'oxygène gazeux est adressé par une tuyauterie d'alimentation en gaz (31) à une chambre de phase gazeuse (13), et une pompe à vide (35) est actionnée simultanément à cela pour mettre sous vide la chambre de phase gazeuse (13). De l'eau brute est adressée par une tuyauterie d'eau brute (21) à une chambre de phase liquide (12). Une partie de l'oxygène à l'intérieur de la chambre de phase gazeuse (13) traverse par perméation un film perméable au gaz (11) et se dissout dans l'eau brute à l'intérieur de la chambre de phase liquide (12). Ainsi, de l'eau contenant un gaz dissous est obtenue. Le reste de l'oxygène à l'intérieur de la chambre de phase gazeuse (13) est aspiré par la pompe à vide (35) conjointement avec de l'eau condensée et déchargé par une tuyauterie de décharge (33). La concentration en oxygène dissous de l'eau contenant un gaz dissous est mesurée par un compteur de gaz dissous (23), et le degré d'ouverture d'une soupape de commande d'écoulement de gaz (32) est régulé de telle sorte que la concentration mesurée vienne à une valeur désirée.
(JA)  溶存ガス濃度が低濃度(低飽和度)であるガス溶解水を安定して供給することが可能なガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法を提供する。ガス供給配管31から気相室13内に酸素ガスを供給すると共に、真空ポンプ35を作動し、気相室13内を真空排気する。また、原水配管21から液相室12内に原水を供給する。気相室13内の酸素の一部は、気体透過膜11を透過して液相室12内の原水に溶存し、ガス溶解水が製造される。気相室13内の酸素の残部は、凝縮水と共に真空ポンプ35で吸引されて排気配管33から排出される。ガス溶解水の溶存酸素濃度が溶存ガス濃度計23で測定され、この測定濃度が目標値となるように、ガス流量制御弁32の開度が調節される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)