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1. (WO2010113813) BASE-GENERATING AGENT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD AND ARTICLE USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/113813    International Application No.:    PCT/JP2010/055431
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 26.03.2010
IPC:
C09K 3/00 (2006.01), C07D 295/18 (2006.01), C07D 309/12 (2006.01), C07D 317/64 (2006.01), C08K 5/04 (2006.01), C08L 101/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 11/00 (2006.01), C09D 201/00 (2006.01), C09J 11/06 (2006.01), C09J 179/04 (2006.01), C09J 179/08 (2006.01), C09J 201/00 (2006.01), C09J 201/02 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP) (For All Designated States Except US).
KATAYAMA, Mami [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUDA, Shunji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAKAYORI, Katsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWAGUCHI, Kouji [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KATAYAMA, Mami; (JP).
FUKUDA, Shunji; (JP).
SAKAYORI, Katsuya; (JP).
KAWAGUCHI, Kouji; (JP)
Agent: KISHIMOTO, Tatsuhito; c/o TOKYO CENTRAL PATENT FIRM, 3rd Floor, Oak Building Kyobashi, 16-10, Kyobashi 1-chome, Chuou-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2009-087617 31.03.2009 JP
2009-260753 16.11.2009 JP
Title (EN) BASE-GENERATING AGENT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD AND ARTICLE USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) AGENT DE GÉNÉRATION DE BASE, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE FORMATION DE MOTIFS COMPRENANT LA COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS ET ARTICLE UTILISANT LA COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 塩基発生剤、感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、当該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法並びに物品
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are: a base-generating agent which has a high sensitivity and a wide application range; and a photosensitive resin composition which has a wide range of application choices owing to the structure of a polymer precursor the reaction of which to give a final product is promoted by a basic substance or by heating in the presence of a basic substance. A base generating agent represented by chemical formula (1) [wherein each symbol is as defined in the description], characterized by generating a base upon electromagnetic irradiation and heating; and a photosensitive resin composition characterized by comprising said base generating agent and a polymer precursor the reaction of which to give a final product is promoted by said base generating agent and a basic substance or by heating in the presence of the basic substance.
(FR)L'invention porte sur un agent de génération de base qui a une sensibilité élevée et une large gamme d'applications ; sur une composition de résine photosensible qui a une large gamme de choix d'applications en raison de la structure d'un précurseur polymère dont la réaction pour donner un produit final est favorisée par une substance basique ou par chauffage en présence d'une substance basique. Un agent de génération de base représenté par la formule chimique (1) [dans laquelle chaque symbole est tel que défini dans la description], est caractérisé par la génération d'une base lors d'une irradiation électromagnétique et d'un chauffage ; et une composition de résine photosensible est caractérisée par le fait qu'elle comprend ledit agent de génération de base et un précurseur polymère dont la réaction pour donner un produit final est favorisée par ledit agent de génération de base et une substance basique ou par chauffage en présence de la substance basique.
(JA)高感度で、適用可能な範囲が広い塩基発生剤、及び、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い感光性樹脂組成物を提供する。 下記化学式(1)で表わされ且つ電磁波の照射と加熱により、塩基を発生することを特徴とする、塩基発生剤、並びに、当該塩基発生剤及び塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物である。 (式中の記号は明細書中に記載の通りである。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)