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1. (WO2010113792) APPARATUS AND METHOD FOR TREATING ETCHING SOLUTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/113792    International Application No.:    PCT/JP2010/055357
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 26.03.2010
IPC:
H01L 21/306 (2006.01), B01D 61/02 (2006.01), B01D 61/14 (2006.01), C02F 1/44 (2006.01), H01L 31/04 (2006.01)
Applicants: KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 4-7, Nishishinjuku 3-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1608383 (JP) (For All Designated States Except US).
KOMORI, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ORITA, Nobuhiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KOMORI, Hideyuki; (JP).
ORITA, Nobuhiro; (JP)
Agent: SHIGENO, Tsuyoshi; Nissin bldg., 9F, 5-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2009-086345 31.03.2009 JP
Title (EN) APPARATUS AND METHOD FOR TREATING ETCHING SOLUTION
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ POUR TRAITER UNE SOLUTION DE GRAVURE
(JA) エッチング液の処理装置及び処理方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are an etching solution treatment apparatus and an etching solution treatment method by which replacement frequency of an etching solution can be reduced and impurities are prevented from being mixed in a treated etching solution. The etching solution treatment apparatus is provided for the purpose of recycling the etching solution which has been used for etching silicon, and is provided with a membrane separation means (3) which performs membrane treatment to the etching solution fed from an etching bath (2), and a circulating means (6) which circulates the transmembrane solution fed from the membrane separation means (3) to the etching bath. The membrane separation means (3) has a UF membrane module (4) and an NF membrane module (5). Alkaline materials and organic materials may be added to the transmembrane solution.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement de solution de gravure et un procédé de traitement de solution de gravure grâce auxquels la fréquence de remplacement d'une solution de gravure peut être réduite et les impuretés ne peuvent être mélangées dans une solution de gravure traitée. L'appareil de traitement de solution de gravure est prévu pour recycler la solution de gravure qui a été utilisée pour graver du silicium, et il est doté d'un moyen de séparation par membrane (3) qui réalise un traitement par membrane de la solution de gravure fournie depuis un bain de gravure (2), et d'un moyen de mise en circulation (6) mettant en circulation la solution transmembranaire fournie depuis le moyen de séparation par membrane (3) pour qu'elle atteigne le bain de gravure. Le moyen de séparation par membrane (3) comprend un module de membrane UF (4) et un module de membrane NF (5). Des matières alcalines et des matières organiques peuvent être ajoutées à la solution transmembranaire.
(JA) エッチング液の交換頻度を減少させることができると共に、処理されたエッチング液中に不純物が混入することも防止されるエッチング液の処理装置及びエッチング液の処理方法。シリコンをエッチング処理したエッチング液を循環再利用するためのエッチング液の処理装置であって、エッチング槽2からのエッチング液を膜処理する膜分離手段3と、該膜分離手段3の膜透過液を該エッチング槽に循環させる循環手段6と、を備える。前記膜分離手段3は、UF膜モジュール4とNF膜モジュール5とを有する。膜透過液にアルカリ及び有機物を添加してもよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)