WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2010113644) EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2010/113644    International Application No.:    PCT/JP2010/054565
Publication Date: 07.10.2010 International Filing Date: 17.03.2010
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP) (For All Designated States Except US).
KAJIYAMA, Koichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KAJIYAMA, Koichi; (JP)
Agent: SASAJIMA, Fujio; 7th Floor, Akasaka Eight One Building 13-5, Nagata-cho 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000014 (JP)
Priority Data:
2009-090617 03.04.2009 JP
Title (EN) EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 露光方法及び露光装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is an exposure method wherein, after exposure of the first exposure region (9) of a subject to be exposed (8) is completed using the first mask pattern group (12) of a photomask (11), while transferring the subject to be exposed (8) in the arrow A direction, light emitted from a light source is interrupted by moving a shutter (5) in synchronization with the transfer speed of the subject (8) to be exposed, the subject to be exposed (8) is returned in the arrow D direction by the distance the subject to be exposed (8) has moved during a time when the shutter (5) moved, and the mask pattern group is switched to the second mask pattern group (13) by moving the photomask (11). When the switching of the mask pattern group of the photomask (11) is completed, transfer of the subject to be exposed (8) in the arrow A direction is restarted, and at the same time, the shutter (5) is moved in the arrow B direction in synchronization with the transfer speed of the subject to be exposed (8) and interruption of light emitted from the light source is stopped, and exposure of the second exposure region (10) is performed. Thus, efficiency of forming the plurality of kinds of exposure patterns on the same subject to be exposed is improved.
(FR)L'invention concerne un procédé d'exposition dans lequel, après que l'exposition d'une première région d'exposition (9) d'un sujet à exposer (8) est achevée au moyen d'un premier groupe de motifs de masque (12) d'un masque photographique (11), tout en transférant le sujet à exposer (8) dans le sens de la flèche A, une lumière émise depuis une source lumineuse est interrompue par déplacement d'un obturateur (5) en synchronisation avec la vitesse de transfert du sujet à exposer, le sujet à exposer (8) étant replacé dans le sens de la flèche D par la distance sur laquelle ledit sujet à exposer (8) a été déplacé pendant une durée au cours de laquelle l'obturateur (5) a été déplacé, et le groupe de motifs de masque est commuté sur un deuxième groupe de motifs de masque (13) par déplacement du masque photographique (11). Lorsque la commutation du groupe de motifs de masque du masque photographique (11) est achevée, le transfert du sujet à exposer (8) dans le sens de la flèche A redémarre, et dans un même temps, l'obturateur (5) est déplacé dans le sens de la flèche B en synchronisation avec la vitesse de transfert du sujet à exposer (8) et l'interruption de la lumière émise par la source lumineuse est arrêtée, et l'exposition d'une deuxième région d'exposition (10) est effectuée. Ainsi, l'efficacité de formation d'une pluralité de types de motifs d'exposition sur le même sujet à exposer est améliorée.
(JA) 本発明は、被露光体8を矢印A方向に搬送しながら、フォトマスク11の第1のマスクパターン群12を使用して行う被露光体8の第1の露光領域9に対する露光が終了すると、シャッタ5を被露光体8の搬送速度に同期して移動して光源光を遮断し、被露光体8がシャッタ5の移動中に移動した距離だけ被露光体8を矢印D方向に戻すと共に、フォトマスク11を移動して第2のマスクパターン群13に切り替え、フォトマスク11のマスクパターン群の切り替えが終了すると、被露光体8の矢印A方向への搬送を再開するのと同時に、シャッタ5を被露光体8の搬送速度に同期して矢印B方向に移動して光源光の遮断を解除し、第2の露光領域10に対する露光を実行する。これにより、同一の被露光体に対する複数種の露光パターンの形成効率を向上する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)